리소그래피 라인에서 포토레지스트 스트리핑 중 서포트 히터가 내려가면 라인이 즉시 멈춥니다. 웨이퍼는 잔류물과 함께 쌓이기 시작하고, 스크랩이 증가하며, 스케줄러는 갑자기 난처한 상황에 처합니다. 열 제어가 문제를 일으키지 않아야 합니다.
기술적으로 중요한 점
당사의 포토레지스트 스트리핑 서포트 히터는 활성 영역 전반에 걸쳐 웨이퍼 수준의 온도 균일성을 ±0.1°C 이내로 유지하며, 베이크 및 스트립 시퀀스 동안 설정 온도 안정성을 확보합니다. 쿼츠 요소와 제어된 단파 적외선 경로가 목표 영역만 가열하여 챔버 고정구로의 열 누설을 방지합니다.
조립체는 클린룸 Class 1–100 환경에 적합하도록 저가스 방출 재료와 입자 수를 일정하게 유지하는 표면 마감으로 제작됩니다. 다교대 운영 시에도 24시간 7일 신뢰성이 보장되며, 예기치 않은 다운타임 없이 반복 가능한 온도 프로파일로 치수 관리가 가능합니다.
실제 공정에서 견뎌내는 이유
스트리핑 성능은 일관된 열 예산에 달려 있습니다. 서포트 온도를 안정화하면 용제 및 플라즈마 스트립 화학반응이 균일하게 작동하여 잔류물과 스트립 후 결함을 줄입니다.
소프트 베이크와 하드 베이크 역시 더욱 엄격하게 제어되어 라인 폭 관리를 개선하고 재작업을 감소시킵니다. 결과적으로 1차 수율 향상, 변동 감소, 에너지 소모 절감이 가능하며 이는 빠른 램프 안정화와 과도 온도 상승 감소 덕분입니다.
계획 시 고려 사항
히터는 기존 스트립 챔버와 서포트 플래튼에 장착 가능하지만, 인터페이스는 기계적 및 열적 고정점을 정확히 일치시켜야 합니다. PID 튜닝과 레지스트 스택 대비 프로파일 확인을 위한 짧은 시운전을 별도로 계획해야 합니다.
운전 수명은 대기 환경과 듀티 사이클에 따라 달라집니다. 고출력 운전 시에는 쿼츠 점검을 주기적으로 실시하여 균일성을 유지해야 합니다.