Pada permukaan litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran tidak menyebabkan masalah yang ketara. Perubahan tersebut akan ditunjukkan melalui variasi lebar garisan, kehadiran bahan pelarut dalam lapisan fotoresist, serta sisa-sisa bahan yang terbentuk beberapa jam selepas proses selesai. Apa yang diperlukan ialah lampu yang mampu mengekalkan suhu fotoresist pada tahap yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.
Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kita menggunakan pemancar cahaya inframerah dekat (NIR) yang mempunyai spektrum cahaya yang sesuai untuk memanaskan lapisan fotoresist dengan cepat dan sekata. Dengan cara ini, tidak akan berlaku perbezaan suhu antara permukaan dan bahagian bawah lapisan tersebut. Kestabilan suhu di seluruh kawasan pembakaran adalah sekitar ±0.1°C, yang seterusnya memastikan kelikatan lapisan fotoresist tetap konsisten. Sistem ini dapat beroperasi secara berterusan tanpa menghasilkan zarah-zarah halus, sesuai digunakan di bilik bersih dari kelas 1 hingga kelas 100. Kuasa output lampu kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%. Profil suhu juga tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.
Inilah sebabnya mengapa perkara ini penting dalam proses pengeluaran: ia mengurangkan keperluan untuk melakukan pembaikan, serta mengurangkan risiko kontaminasi. Kawalan suhu yang lebih baik membantu mengelakkan masalah berkaitan bahan pelarut dan pembentukan titik-titik pada permukaan lapisan fotoresist. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana cahaya NIR memanaskan lapisan fotoresist secara langsung, bukan dinding ruang penyimpanan.
Kebolehpercayaan sistem ini membolehkannya beroperasi 24/7, dengan kawalan suhu yang tepat mengikut spesifikasi proses yang ditetapkan. Ini memastikan proses litografi dapat berjalan lancar tanpa gangguan.
Beberapa perkara praktikal yang perlu diperhatikan: Intensiti cahaya NIR akan berkurangan seiring dengan jarak antara lampu dan wafer. Oleh itu, jarak antara lampu dan wafer perlu ditetapkan dengan tepat semasa pemasangan. Peluang untuk mencapai kestabilan suhu memerlukan masa yang singkat, dan penyelenggaraan perlu dilakukan mengikut jangka hayat pemancar cahaya tersebut. Pastikan alat ini sesuai dengan antaramuka koater/track yang digunakan, dan pastikan spesifikasi proses sesuai dengan masa tindak balas lampu tersebut.