Di lantai litografi, pergeseran suhu bake sebanyak setengah darjah sudah cukup untuk membuang satu lot wafer keseluruhan. Soft bake dan hard bake bukan sekadar kitaran haba — ia adalah kawalan dimensi. Jika lampu tidak dapat mengekalkan setpoint merata di seluruh wafer, keseragaman CD akan terjejas, dan hasil pengeluaran turut menurun.
Kami membina lampu bake spin coater menggunakan halogen kuarza inframerah dekat (NIR). Ia memberikan tindak balas termal pantas, langsung dan output radiasi yang stabil. Sistem ini mensasarkan keseragaman pada tahap wafer dalam lingkungan ±0.1°C, dan kebolehulangan memastikan penghapusan pelarut konsisten, setiap kitaran.
Perhimpunan lampu ini dinilai untuk bilik bersih Kelas 1–100. Laluan optik bertutup dan bahan rendah pengeluaran gas mengekalkan jumlah zarah kekal stabil. Output tetap stabil lebih daripada 5,000 jam, dengan pergeseran intensiti kurang daripada 5%, jadi bajet terma anda tidak berubah mengikut masa.
Ini sebab ia sesuai dalam persekitaran spin coater: kenaikan suhu pantas, tempoh kekal yang ketat, dan kembali segera ke setpoint antara wafer. Anda mendapat kitaran bake yang lebih pendek tanpa lebihan suhu, penggunaan tenaga per lot yang lebih rendah, dan kurang topeng kerja semula disebabkan oleh kaki dan sisa. Keputusan adalah kawalan CD yang boleh diramal dan kurang penyimpangan berkaitan variasi bake.
NIR memberikan anda kelajuan dan keseragaman, tetapi lampu memerlukan bekalan kuasa bersih dan penjajaran optik yang tepat. Riak voltan atau lampu yang tidak sejajar akan menyebabkan titik panas. Sebelum memasang, sahkan soket lampu dan antara muka terma spin coater.
Rancang kalibrasi intensiti berkala dan pemeriksaan tingkap. Itu yang mengekalkan keseragaman ±0.1°C pada tahap yang diperlukan, bulan demi bulan.