Di bilik pemprosesan wafer, kelembapan yang tertinggal selepas proses pembersihan bukan sekadar masalah kecil. Kelembapan tersebut akan meresap ke dalam lapisan fotoresist semasa proses pembakaran, lalu mengubah dimensi penting pada permukaan wafer. Ini seterusnya menyebabkan penurunan kualiti wafer. Lampu untuk menghilangkan kelembapan ini berfungsi dengan baik untuk mengeluarkan kelembapan dari permukaan wafer sebelum lapisan fotoresist terjejas.
Apa yang penting dari segi teknikal
Lampu ini dibina menggunakan pemancar halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di dalam selubung kuarsa. Tujuannya adalah untuk memanaskan permukaan wafer dengan cepat, dengan penggunaan tenaga haba yang minimum. Ini membolehkan suhu permukaan wafer mencapai tahap yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja, dengan ketepatan ±0.1°C. Profil sinar lampu disesuaikan mengikut diameter wafer dan kelajuan imbasan, agar suhu permukaan wafer dapat dikawal dengan baik, dan sifat kimia lapisan fotoresist tetap tidak berubah. Lampu ini juga sesuai digunakan dalam suasana bilik bersih yang mematuhi standard kelas 1–100; ia memiliki struktur yang kedap udara, dan tidak menghasilkan zarah debu semasa beroperasi secara berterusan.
Mengapa ia sesuai untuk proses pemprosesan
Wafer diproses melalui proses pencucian dan pengeringan, kemudian langsung dimasukkan ke dalam alat pelapisan. Jika kelembapan tidak dikeluarkan dengan segera, air yang tertinggal akan mengencerkan lapisan fotoresist. Ini akan menyebabkan masalah seperti benjolan pada tepi wafer, perubahan bentuk permukaan wafer, dan perubahan dimensi wafer selepas proses pembakaran. Dengan menggunakan lampu ini, kelembapan dapat dihilangkan tanpa menyebabkan suhu substrat menjadi terlalu tinggi. Hasilnya, proses pembakaran akan berjalan dengan lancar, dan hasil litografi akan tetap memenuhi spesifikasi yang ditetapkan.
Ketahanan lampu ini bergantung pada masa operasinya. Lampu ini boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan prestasinya tetap stabil walaupun setelah 5,000 jam beroperasi.
Butiran praktikal
Lampu ini boleh digunakan bersama sistem mekanikal dan elektrikal yang sudah ada, namun toleransi penyesuaian posisi lampu harus sangat tepat. Pastikan pusat sinar lampu berada pada posisi yang betul, dan pastikan proses imbasan selaras dengan kawalan alat pelapisan. Waktu pemanasan lampu sebelum beroperasi adalah singkat, dan intensiti cahaya lampu perlu diselaraskan secara berkala. Di kawasan yang mempunyai kelembapan tinggi, pastikan sistem pengudaraan berfungsi dengan baik agar tidak berlaku pengumpulan kelembapan semula setelah proses pemprosesan selesai.