웨이퍼 처리 장치에서 열이 낭비되는 것을 막으세요.
대부분의 적외선 램프의 문제점은, 열이 모든 방향으로 퍼진다는 것입니다. 반도체 웨이퍼를 가열할 때는 그 에너지가 웨이퍼에 직접 도달해야 합니다. 결코 값비싼 기계의 내벽에 열이 전달되는 것을 원하지 않습니다.
만약 장비가 거대한 열 싱크처럼 작동한다면 상황은 더욱 복잡해집니다. 에너지가 낭비되고, 기계의 프레임도 열로 인해 팽창하기 시작합니다. 이는 전혀 원치 않는 문제입니다.
방향성 가열의 원리
이 문제를 해결하기 위해 우리는 일반적인 석영관 대신 방향성 적외선 기술을 사용합니다. 마치 램프 뒤쪽에 반사판이나 특수 코팅을 추가하는 것과 같습니다.
360도로 퍼지는 열 대신, 열이 앞쪽으로만 집중됩니다. 그 결과 웨이퍼에 집중된 열이 가해지고, 램프 뒷부분은 그대로 차갑게 유지됩니다. 그러면 챔버의 내벽도 손상되지 않습니다. 아주 간단합니다.
팀과 장비를 안전하게 보호하기
장비의 내부를 시원하게 유지하는 것은 단순히 전기 요금을 절약하기 위한 것이 아닙니다. 그것은 기계를 조작하는 사람들을 보호하기 위한 것입니다.
내벽이 너무 뜨거워지지 않으면, 기술자들도 급작스러운 교체나 점검 중에 화상을 입을 위험이 줄어듭니다. 그렇게 되면 전체 작업 공간이 더 안전해집니다.
하지만 주의해야 할 점이 있습니다. 고밀도 발열체는 많은 전류를 필요로 합니다. 300mm 웨이퍼를 빠르게 가열하려면, 냉각 시스템이 그 열을 감당할 수 있어야 합니다. 벽면은 시원할 수 있지만, 웨이퍼는 강한 열을 받게 됩니다.
타협점
물론 한 가지 단점이 있습니다. 열이 너무 집중되기 때문에, 일반 램프의 ‘부드러운’ 빛 효과는 사라집니다. 따라서 PID 조정을 정확하게 해야 합니다. 웨이퍼가 몇 밀리미터만 어긋나도 표면의 온도가 크게 변할 수 있습니다.
즉, 넓은 범위에 분산되는 열 대신, 정밀한 열을 얻는 대가를 치러야 합니다. 대부분의 경우, 이는 그만한 가치가 있는 타협입니다.