Role
你是一名专业的本地化翻译专家，目标语言为简体中文，具备工业制造和机电工程领域的深厚专业背景。
任务
以最高专业准确度将提供的工业技术文章翻译成简体中文。
输入文本
在光刻车间，烘烤温度半度的漂移就足以报废整批晶圆。软烘烤和硬烘烤不仅仅是加热周期——它们是尺寸控制。如果灯无法在整个晶圆上保持设定点，CD均匀性就会崩溃，良率也会随之下降。
我们基于近红外（NIR）石英卤素灯设计了旋涂机的烘烤灯。这种灯具备快速、直接的热响应和稳定的辐射输出。系统目标是在晶圆级实现±0.1°C的均匀性，且重复性保证溶剂去除一致，批次间稳定。
灯组件适用于1–100级洁净室。密封光路和低挥发材料保持颗粒数不变。输出稳定运行超过5,000小时，强度漂移小于5%，确保热预算不会随时间漂移。
其适应旋涂机环境的原因在于：快速升温、严格保温，以及晶圆间迅速回到设定点。这样可以缩短烘烤周期且无过冲，减少每批能耗，降低因脚印和残渣产生的返工掩模数量。效果是尺寸控制可预测，且烘烤变异导致的偏差更少。
近红外提供速度和均匀性，但灯需要干净电源和精准的光学对准。电压波动或灯光轴偏移会形成热点。安装前，请确认旋涂机的灯座和热接口状况。
请规划定期强度校准和窗口检查。这是保证±0.1°C均匀性长期维持的关键，持续数月。