Lihatlah wafer yang keluar dari stesen pembilasan tersebut. Tidak boleh ada kesan air pada permukaan wafer tersebut. Bahan photoresist tidak boleh terjejas akibat perubahan suhu yang mendadak. Jika pemanas tidak dapat menghasilkan suhu yang sesuai, kualiti wafer akan menurun – ini bermakna perlu dilakukan proses pembaikan sekali lagi, dan sejumlah wafer perlu dibuang.
Apa yang berlaku secara teknikalnya?
Kami membina pemanas untuk wafer sensor MEMS ini menggunakan elemen pemanas yang responsif dengan cepat, serta reka bentuk termal yang berdasarkan kuarsa. Reka bentuk ini memastikan suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, agar proses pembakaran berjalan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.
Penghasilan zarah-zarah kecil dapat dikurangkan menjadi sifar melalui reka bentuk yang tertutup dan penggunaan bahan yang kurang mengeluarkan gas. Pengawal suhu pula merekodkan suhu dengan ketepatan yang tinggi, sehingga proses dapat dikontrol dengan lebih baik. Penggunaan tenaga juga dapat dikurangkan, kerana reka bentuk ini meminimakan pembaziran tenaga tanpa mengorbankan kestabilan proses.
Mengapa ini penting?
Dalam proses MEMS, langkah pengeringan merupakan asas bagi setiap langkah litografi dan pembungkusan yang berikutnya. Dengan pemanas ini, wafer dapat dikeringkan dengan sempurna, tanpa adanya kesan air atau titisan air pada permukaannya. Selain itu, integriti bahan photoresist juga dapat dipertahankan kerana suhu dapat dikawal dengan tepat.
Hasilnya adalah penurunan jumlah proses pembaikan, kawalan dimensi yang lebih baik, serta masa proses yang lebih stabil. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7, jadi masa operasi tetap stabil dan gangguan yang tidak dijangka dapat diminimakan. Apabila bajet haba terhad, pemanas ini akan memastikan proses berjalan mengikut spesifikasi yang ditetapkan, dari satu kumpulan wafer ke kumpulan wafer yang lain.
Apa yang perlu dirancang?
Semasa pemasangan, perlu pastikan port alat dan antaramuka saluran gas sesuai. Kami menyediakan dimensi dan spesifikasi pemasangan, tetapi anda masih perlu memastikan bahawa ruang yang ada mencukupi untuk pemasangan tersebut.
Pemanas ini dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan cepat, tetapi bilik pemprosesan dan komponen lain masih memerlukan masa sedikit untuk mencapai suhu yang stabil. Anggaplah pemanas ini sebagai peralatan yang digunakan di bilik bersih – jangan sentuh permukaan yang panas, dan patuhi protokol pencegahan kontaminasi.
Perubahan spesifikasi proses hanya memerlukan penyesuaian yang cepat. Setelah disetel dengan betul, proses akan menjadi lebih stabil dan boleh diaudit.