Riscaldatore per essiccazione di wafer dei sensori MEMS
Osservate come la wafer esca dalla stazione di risciacquo: non devono esserci tracce d’acqua. Il fotorest non può subire variazioni termiche...
Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer
Nella fase di produzione, l’umidità rimasta dopo la pulizia non rappresenta soltanto un fastidio: essa penetrano nel fotorestatto durante il processo...
Distanza di sicurezza per il riscaldamento del wafer
Nelle linee di produzione, la cottura del fotoresistente richiede il rispetto di precisi parametri termici. Una variazione di temperatura di 10 ms o...
Riscaldatore per il trattamento di wafer di zaffiro
Sul piano di produzione, quel wafer di zaffiro da 2 pollici è posizionato sotto la linea di litografia, in attesa del Soft Bake. Serve una...