Nella fase di produzione, l’umidità rimasta dopo la pulizia non rappresenta soltanto un fastidio: essa penetrano nel fotorestatto durante il processo di essiccazione, influenzando negativamente le dimensioni delle strutture da realizzare e causando una diminuzione della qualità del prodotto finale. La lampada per la rimozione dell’umidità risolve questo problema, eliminando l’umidità dalla superficie del wafer prima che questa possa compromettere il funzionamento del sistema di litografia.
Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Abbiamo progettato questa lampada utilizzando emittori ad azione halogenica a onde corte, alloggiati all’interno di un involucro in quarzo. L’obiettivo è ottenere un riscaldamento rapido e localizzato della superficie, con un minimo di massa termica. Si ottiene così un tempo di risposta inferiore a un secondo, e una uniformità della temperatura su tutto il wafer entro i ±0,1°C. Il profilo del fascio luminoso è regolato in base al diametro del wafer e alla velocità di scansione, in modo che il bilancio termico rimanga sotto controllo e la chimica del fotorestatto non venga alterata. La compatibilità con ambienti a bassa umidità è garantita grazie all’uso di materiali conformi alle norme Class 1–100, a un involucro sigillato e alla assenza di particelle generate durante il funzionamento continuo.
Perché è adatta per l’utilizzo in produzione
I wafer vengono sottoposti a processi di lavaggio e essiccazione, per poi essere immediatamente inviati al dispositivo di deposizione del fotorestatto. Se l’umidità non viene eliminata tempestivamente, l’acqua residua diluisce l’interfaccia tra il fotorestatto e il substrato. Ciò porta a problemi come formazione di grumi lungo i bordi del wafer, cambiamenti nelle dimensioni delle strutture da realizzare. Utilizzando questa lampada, l’umidità viene eliminata senza surriscaldare il substrato, permettendo così di mantenere il profilo di essiccazione desiderato. Il risultato è un processo di essiccazione ripetibile e preciso, con risultati stabili e allineati alle specifiche richieste.
L’affidabilità di questi dispositivi dipende dal tempo di funzionamento continuo: essi operano 24/7 senza interruzioni, con una deviazione nella produzione inferiore al 5% dopo 5.000 ore di funzionamento.
Dettagli pratici
La lampada può essere inserita nei sistemi esistenti, grazie alle interfacce meccaniche ed elettriche standard. Tuttavia, è necessario prestare attenzione all’allineamento della lampada rispetto al sistema di depositazione del fotorestatto. È importante verificare che il centro del fascio luminoso sia correttamente allineato e che la sincronizzazione dello scansionamento corrisponda a quella del controllore del dispositivo di depositazione. È necessario effettuare una breve fase di riscaldamento per raggiungere la stabilità termica all’inizio della giornata lavorativa. Inoltre, è importante effettuare regolarmente la calibrazione dell’intensità del fascio luminoso. Nei ambienti ad alta umidità, è fondamentale assicurarsi che vi sia un sistema di estrazione efficace dell’umidità, per evitare che si formi nuovamente umidità dopo il trattamento.