リソグラフィー装置のフロア上では、低温での焼成による影響は明らかな故障としては現れません。代わりに、線幅の変動やレジスト内に残留する溶剤、そして数時間後に発生するスクラップといった問題が現れます。必要なのは、回を重ねても、レジストの温度を所定の範囲内に保つことができるランプです。
技術的に重要な点 私たちは、レジストを迅速かつ均一に加熱できるように、スペクトル出力が最適化された近赤外線ランプを使用しています。そうすることで、フィルムの表面と底部の間で温度差が生じることがありません。ウェーハ全体での温度のばらつきは±0.1℃程度であり、これにより粘度の再現性や塗布性能が向上します。このシステムは連続して稼働し続け、粒子の発生もありません。クラス1からクラス100までのクリーンルーム環境にも適しています。出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の変動は5％未満です。また、ロットごとにも熱特性が安定しています。
これが製造において重要な理由です。再作業が減少し、汚染のリスクも低下します。厳格な温度制御により、溶剤の残留や端部分の問題が軽減され、CDの精度が向上します。また、NIRランプはチャンバーの壁面ではなく、直接レジストを加熱するため、エネルギー消費も削減されます。
信頼性も高く、24時間365日稼働できます。熱昇温もプロセス要件に合わせて調整され、計画外の停止が起こりません。
いくつか実用的なポイントです。NIRランプの強度は距離によって低下するため、ランプとウェーハの距離は設置時に正確に調整される必要があります。設定値に到達するまでには少し時間がかかりますが、ランプの寿命を考慮してメンテナンスを計画することで、スケジュールの乱れを防げます。また、装置がコーターやトラックインターフェースと互換性があるかを確認し、ランプの応答時間に合わせて焼成条件を調整することで、プロセスが仕様通りに進行します。