リソグラフィーの工程において、ソフトベイク時の温度の偏差が半度程度あっても、それは「許容範囲」とは言えません。その場合、ウェーハは廃棄処分されます。フォトレジストの乾燥は温度管理によって左右され、赤外線モジュールは、歩留まりを決定する重要な要素となります。
実際に重要なのは何か 私たちは、ウェーハ全体の温度を±0.1℃以内に保つ赤外線フォトレジスト乾燥モジュールを使用しています。また、ベイクプロファイルもバッチごとに一定に保たれます。エミッターとしては、近赤外線が選ばれています。これにより、迅速で正確な反応が得られ、スペクトル制御も容易になります。これにより、温度の遅れや過剰な上昇を防ぐことができます。このシステムは、クラス1～100の清浄室向けに設計されており、粒子の発生を完全に防ぐようになっています。また、24時間365日稼働し、計画外の停止がないようになっています。メンテナンスのタイミングも、製造ラインの切り替え時に合わせて行われます。
なぜこれがフォトレジスト処理において重要なのか フォトレジストは繊細です。ソフトベイクでは溶剤が除去され、ハードベイクでは接着力や寸法の安定性が確保されます。このモジュールを使えば、温度管理が容易になり、溶剤の残留が減少し、再作業も少なくなります。その結果、寸法の精度が向上し、欠陥が減少し、サイクルタイムも予測可能になります。また、エネルギー消費も削減されます。赤外線は迅速に反応するため、ベイク工程を短縮でき、ウェーハあたりのコストも下がります。
設置時に注意すべき点 設置時には、オーブンの形状に合わせる必要があり、電圧やコネクタの互換性も確認しなければなりません。高電流が流れる場合は、240Vが一般的です。また、モジュールには清潔で乾燥した冷却環境が必要であり、清浄室適合の取り付けインターフェースも必要です。調整には時間はかからないが、重要です。エミッシビティやスキャン速度をフォトレジストの特性に合わせて調整します。一度調整が完了すれば、プロセスは安定します。しかし、初期設定はそう簡単にはいきません。