ファブ内では、フォトレジストの焼成は任意の工程ではなく、必須の工程です。ウェーハ全体でわずか0.5°Cの温度変化があっても、重要な寸法が変わり、歩留まりが悪化してしまいます。私たちは、このような状況に対応するために、半導体用のラボ用オーブン用ランプを開発しました。
実際に重要なのは何か 結局のところ、赤外線の精度が鍵となります。私たちのNIRランプは、サブミリメートル単位の均一な熱分布を実現し、ウェーハ全体の温度を±0.1°C以内に保ちます。これは単なる出力の大きさではなく、スペクトルの制御や反射器の形状が適切に設計されているからです。
その結果、繰り返し行っても安定した焼成プロセスが実現します。実際には、予測可能なフォトレジストの流れや、信頼性の高い線幅、安定した温度管理が可能になります。
なぜ実際のファブで機能するのか このランプは、クラス1～100のクリーンルーム内のオーブンに直接取り付けられます。粒子の発生をゼロにすることが前提となるため、設計時には密封された石英製のケースや、ガス放出量が少ない部品が使用されています。
信頼性は稼働時間で判断されます。この装置は5,000時間以上稼働しても、出力低下が5％未満です。そのため、ランプの故障を心配する必要はなく、プロセスの安定性に焦点を当てることができます。また、NIRランプはオーブンの壁面ではなくウェーハ自体を加熱するため、エネルギーコストも削減されます。
設置時に注意すべき点 設置自体は簡単ですが、熱的な結合が重要です。ランプは適切な間隔と位置調整を保ちながらオーブンの熱容量と結合しなければなりません。そうでないと、熱の偏りが生じてしまいます。
設定温度に到達するまでには少し時間がかかりますので、30秒程度の安定化時間を見込んでプロセスを計画しましょう。また、このランプはほとんどのオーブンと互換性がありますが、古いオーブンに取り付ける場合は、制御インターフェースの変更が必要になることがあります。私たちは事前にインターフェースの仕様を明示しているので、何の問題もありません。