Hören Sie auf, Energie in den Schächten der Wafer zu verschwenden
Das Problem bei den meisten Infrarotlampen ist, dass sie Wärme in alle Richtungen abgeben. Wenn man einen Halbleiterwafer erwärmt, möchte man, dass die Energie direkt auf das Substrat trifft. Man möchte auf keinen Fall, dass die Energie in die Innenwände der Maschine eindringt – schließlich kostet diese Maschine ein Vermögen.
Wenn die Ausrüstung wie ein riesiger Wärmeableiter funktioniert, wird die Situation unübersichtlich. Man verschwendet Energie, und der Rahmen der Maschine dehnt sich aufgrund der Hitze aus. Das ist ein Problem, das man wirklich vermeiden sollte.
Wie die gerichtete Beheizung funktioniert
Wir lösen dieses Problem, indem wir auf die herkömmlichen Quarzröhren verzichten. Stattdessen verwenden wir eine gerichtete Infrarot-Technologie. Stellen Sie es sich wie einen Reflektor oder eine spezielle Beschichtung auf der Rückseite der Lampe vor. Anstelle einer 360-Grad-Strahlung wird die Wärme gezielt nach vorne gelenkt. Dadurch wird der Strahl konzentriert – die Wärme trifft nun gezielt auf den Wafer, während die Rückseite der Lampe kalt bleibt. So werden die Wände des Schachts nicht mehr überhitzt. Einfach so.
Schutz für Ihr Team und Ihre Ausrüstung
Es geht dabei nicht nur darum, etwas Geld bei den Stromkosten zu sparen. Es geht auch um die Sicherheit der Personen, die mit den Maschinen arbeiten. Wenn die Innenwände nicht überhitzt werden, müssen die Techniker keine Verletzungen durch Verbrennungen riskieren. Dadurch wird die gesamte Werkstatt sicherer.
Aber Achtung: Die Stromversorgung muss stimmen. Diese Hochleistungsemitter verbrauchen viel Strom. Wenn man versucht, einen 300-mm-Wafer schnell zu erhitzen, muss man sicherstellen, dass die Kühlkreisläufe damit umgehen können. Die Wände mögen zwar kalt bleiben, doch der Wafer wird stark belastet.
Der Kompromiss
Es gibt jedoch einen Haken: Da die Wärme so konzentriert ist, fehlt der „weiche“ Glanz einer herkömmlichen Lampe. Das bedeutet, dass die Einstellungen des PID-Systems genau stimmen müssen. Wenn der Wafer nur um wenige Millimeter verschoben ist, kommt es zu Temperaturschwankungen auf der Oberfläche. Man tauscht also den „weichen“ Wärmestrahl gegen präzise Kontrolle ein. Für die meisten ist das ein lohnender Kompromiss.