Op de lithografische ondergrond leidt een lichte afwijking in de baktemperatuur niet tot ernstige problemen. In plaats daarvan zie je verschillen in de dikte van de laag, opgeloste stoffen die nog in het fotoresistent zitten, en defecten die pas uren later optreden. Wat nodig is, is een lamp die de thermische omstandigheden in het fotoresistent precies op het gewenste niveau houdt – cyclus na cyclus.
Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken near-infrarood-emitters met een spectraal spectrum dat erop is gericht om het fotoresistent snel en gelijkmatig te verwarmen. Hierdoor ontstaat er geen temperatuurverschil tussen het oppervlak en de bodem van de laag. De uniformiteit op het niveau van de wafer is ±0,1°C binnen de bakzone. Dit zorgt voor een reproduceerbare viscositeit en een consistent coatingproces. Het systeem blijft continu draaien, zonder dat er partikels worden geproduceerd – het is dus geschikt voor gebruik in cleanrooms van klasse 1 tot 100. De uitgangsintensiteit blijft stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met een afwijking van minder dan 5%. Het thermische profiel blijft ook consistent van batch tot batch.
Dit is belangrijk in de productie: minder herwerkingen en minder kans op vervuiling. Een betere thermische controle verminderd het risico op opgehoopte oplosmiddelen en problemen aan de randen van de laag. Hierdoor blijft de kwaliteit van de laag consistent en hoef je minder materiaal weg te knippen. De energieverbruik neemt af, omdat het near-infrarode licht het fotoresistent rechtstreeks verhit, in plaats van de wanden van de kamer.
De betrouwbaarheid van het systeem is zo dat het 24/7 kan werken, met thermische schakelingen die precies overeenkomen met de vereisten van het proces. Hierdoor kan het lithografieproces ononderbroken doorgaan, zonder onverwachte stilstanden.
Een paar praktische tips: de intensiteit van het near-infrarode licht neemt af naarmate de afstand toeneemt. Daarom moet de afstand tussen de lamp en de wafer tijdens de installatie nauwkeurig worden vastgesteld en gekalibreerd. Er is een korte opwarmtijd nodig voordat het systeem op het gewenste niveau is. Plan ook de onderhoudswerkzaamheden rondom de levensduur van de emitter, zodat je schema niet wordt verstoord. Zorg ervoor dat het apparaat compatibel is met je coatingapparaat, en controleer of de bakparameters overeenkomen met de reactietijd van de lamp. Op deze manier blijft het proces binnen de vereiste parameters.