Op de productielijn is het vocht dat na het schoonmaken achterblijft geen klein probleem. Het dringt door in de fotoresist tijdens het zachte bakken, waardoor de essentiële dimensies veranderen. Dit leidt tot verlies aan kwaliteit van de producten. De lamp voor het verwijderen van vocht uit de wafers lost dit probleem op door het oppervlaktovocht te verwijderen voordat de lithografieproces wordt beïnvloed.
Wat belangrijk is We hebben de lamp ontworpen met behulp van korte-golfhalogeenemitters die zich bevinden in een kwartsomhulsel. Hierdoor wordt het oppervlak snel op temperatuur gebracht, met minimale thermische energieverbruik. Er wordt snel een gewenste temperatuur bereikt, en de uniformiteit op het oppervlak van de wafer ligt binnen ±0,1°C. Het straalprofiel is aangepast aan de diameter van de wafer en de scanningsnelheid, zodat de thermische balans behouden blijft en de chemische eigenschappen van de fotoresist niet worden beïnvloed. De lamp is compatibel met schone ruimten: gebruikte materialen voldoen aan de classificatie 1–100, het apparaat heeft een afgesloten behuizing en er worden geen deeltjes gegenereerd tijdens het continu gebruik.
Waarom het past in het proces De wafer wordt eerst gespoeld en gedroogd, voordat deze naar de coater wordt gestuurd. Als het vocht niet onmiddellijk wordt verwijderd, zal het resterende water de fotoresist verdunnen. Dit resulteert in problemen zoals oneffenheden op de randen van de wafer na de belichting en het bakken. Door de lamp in het proces te integreren, wordt het vocht verdwenen zonder dat het substraat oververhit raakt. Hierdoor blijft het bakproces zoals gepland. Het resultaat is een reproduceerbaar zacht bakproces, een stabiel harde bakproces en een lithografieproces dat binnen de vereiste parameters valt.
Betrouwbaarheid Betrouwbaarheid hangt af van de tijd dat het apparaat actief kan werken. Deze apparaten werken 24/7 zonder onverwachte stilstanden. Na 5.000 uur blijft de nauwkeurigheid van het apparaat nog steeds onder 5%.
Praktische aspecten De lamp past in bestaande systemen met standaard mechanische en elektrische verbindingen. Echter, de nauwkeurigheid van de alignering moet goed worden gecontroleerd. Zorg ervoor dat het straalcentrum correct is ingesteld en dat de synchronisatie tussen de scanner en de controller goed werkt. Er is een korte opwarmtijd nodig voordat het apparaat optimaal functioneert. Controleer regelmatig de intensiteit van de emitters. In ruimtes met hoge luchtvochtigheid moet er goed worden gezorgd voor afvoer van vocht, zodat er geen hercondensatie optreedt na het behandelen van de wafer.