Лампа для м якого випалювання фоторезисту
На літографічному покритті незначні коливання температури під час процедури випалювання не є серйозною проблемою. Вони проявляються у зміні ширини...
Модуль інфрачервоного висушування фотополімеру
На літого-підлозі навіть напівградусна відхилення у процесі термообробки не є „допустимими“. Це означає, що відповідний віфер буде відкинутий. Процес...