На літографічному покритті незначні коливання температури під час процедури випалювання не є серйозною проблемою. Вони проявляються у зміні ширини ліній, наявності розчинників у фотополімері, а також у появі дефектів через кілька годин після процедури. Щоб уникнути цього, потрібна лампа, яка буде підтримувати потрібний рівень температури фотополімера – це необхідно для кожного циклу обробки.
Що має значення з технічної точки зору
Ми використовуємо випромінювачі у виді ближнього інфрачервоного світла, чия спектральна характеристика дозволяє ефективно та рівномірно нагрівати фотополімер. Це дозволяє уникнути різниці температур між поверхнею та нижньою частиною плівки. Рівномірність температури на всій поверхні плівки становить ±0,1°C, що забезпечує однакову в’язкість фотополімера та стабільність процесу нанесення покриття. Система може працювати безперервно протягом 5 000+ годин, з коливаннями інтенсивності світла менше 5%. Термічний профіль залишається стабільним у всіх партах.
Це має важливе значення у виробництві: менше необхідності у переробці продукту та менший ризик забруднення. Чіткий контроль температури дозволяє уникнути проблем, пов’язаних із залишками розчинників та дефектами на краях плівки. Це також дозволяє краще контролювати параметри якості покриття та зменшувати кількість необхідних корекцій. Витрати енергії зменшуються, оскільки ближнє інфрачервоне світло нагріває саме фотополімер, а не стінки камери.
Надійність системи забезпечується завдяки можливості її безперервної роботи протягом 24/7, при цьому температурний профіль відповідає параметрам процесу без перевищень. Це дозволяє продовжувати процес літографії без непланових зупинок.
Кілька практичних порад: інтенсивність ближнього інфрачервоного світла зменшується з відстанню, тож відстань між лампою та плівкою мусить бути точно встановлена під час монтажу. Потрібно також враховувати час необхідний для досягнення стабільної температури. Також необхідно переконатися, що пристрій сумісний з вашим обладнанням для нанесення покриття, а також перевірити параметри процесу з урахуванням часу реакції лампи, щоб усі параметри залишалися в межах допуску.