Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS
Наблюдайте за тем, как пластина выходит из устройства для промывки. Не допускается наличия следов воды на поверхности пластины. Фотолитографический...
Лампа для удаления влаги с ваферов
На производственной площадке влага, оставшаяся после очистки, представляет собой серьезную проблему. Она проникает в фотополимер во время процедуры...
Расстояние безопасности при нагреве пластины
На производственной линии процесс нагрева фотополимера требует соблюдения строгих температурных параметров. Даже небольшое отклонение температуры в...
Печь для обработки сапфировых пластин
На производственном участке 2-дюймовый сапфировый вафер установлен под литографической системой, ожидая этап Soft Bake. Температура должна составлять...