In de productieruimte is het belangrijk om de juiste temperatuur te behouden tijdens het verhitten van de fotorezist. Een temperatuurschommeling van 10 ms of een afwijking van 1 mm tussen de verwarmingsapparatuur en de wafer kan leiden tot problemen als misvormde patronen of defecte producten. Die veiligheidsafstand rondom de wafer is geen ‘comfortzone’ – het is eerder een grens die ervoor zorgt dat de kwaliteit van de producten en de apparatuur behouden blijven.
Zo hebben we het verwarmingssysteem ontworpen: het wordt op een vaste afstand van de wafer geplaatst, zodat de hete zone gescheiden blijft van de gevoelige apparatuur en de wafer zelf. Hierdoor wordt er een efficiënte warmteoverdracht gerealiseerd. Het systeem houdt de temperatuur over de hele wafer op ±0,1°C constant, zodat de vereisten van het productieproces worden nageleefd.
Het systeem kan worden gebruikt in schone kamers van klasse 1–100, waarbij er geen deeltjes worden gegenereerd. We controleren dit ook ter plaatse. De prestaties van het systeem blijven stabiel gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% temperatuurschommelingen. Dit betekent dat het systeem 24/7 kan werken zonder onverwachte stilstanden.
In de lithografieruimte is het belangrijk om de cyclusijd en herhaalbaarheid te maximaliseren. Met dit systeem kun je de verhittingsduur verkorten, zonder dat de kwaliteit van het product verandert. Er zijn minder defecten en minder herwerkingswerk nodig.
De energieverbruik neemt af, omdat de verwarmingsapparatuur snel de gewenste temperatuur bereikt en deze nauwkeurig behoudt. Er wordt geen energie verspild.
Voor de installatie is het belangrijk om voldoende ruimte te hebben. Houd minstens 10 mm afstand van de rand van de wafer, afhankelijk van de geometrie van de ruimte. Het systeem past in standaardrails en -apparatuur, maar bij een retrofitting kan wel wat aanpassing van de ventilatie- en infrastructuur nodig zijn.
Let ook op de luchtcirculatie in de schone kamer en de thermische belasting op het apparaat. Het systeem kan kleine schommelingen in de omgevingstemperatuur verdragen, maar stabiele invoercondities zorgen ervoor dat de kalibratie op de lange termijn nauwkeurig blijft.