Lampa na měkké vypalování fotorezisty
Na litografické ploše se mírné výkyvy teploty během procesu vypalování neprojevují jako závažné problémy. Projevují se spíše jako variace v šířce...
Modul pro sušení fotorezistentu infračerveným zářením
Na litografické desce nepředstavuje odchylka o půl stupně při procesu zahřívání „toleranci“. Jedná se o znehodnocený polovodičový čip. Sušení...