Trên dây chuyền sản xuất, độ ẩm còn sót lại sau quá trình vệ sinh không chỉ gây phiền toái mà còn khiến hóa chất phản ứng quang học bị ảnh hưởng. Điều này dẫn đến sự thay đổi kích thước của các chi tiết trên wafer, từ đó làm giảm chất lượng sản phẩm. Thiết bị loại bỏ độ ẩm giúp giải quyết vấn đề này bằng cách loại bỏ độ ẩm trên bề mặt wafer trước khi quá trình in ấn diễn ra.
Điểm quan trọng trong thiết kế thiết bị
Chúng tôi sử dụng các bóng đèn halogen tia ngắn được đặt trong vỏ bằng thạch anh. Điều này giúp tạo ra nhiệt lượng nhanh chóng và đồng đều trên bề mặt wafer, với mức độ nhiệt tổng thể thấp. Thiết bị cho phép điều chỉnh nhiệt độ nhanh chóng, chỉ trong vài giây, và đảm bảo độ đồng đều của nhiệt độ trên toàn bề mặt wafer ở mức ±0,1°C. Hình dạng chùm tia được điều chỉnh phù hợp với đường kính wafer và tốc độ quét, nhờ đó việc kiểm soát nhiệt độ được đảm bảo tốt, và hóa chất phản ứng quang học vẫn giữ nguyên tính chất ban đầu. Thiết bị cũng tuân thủ các tiêu chuẩn của phòng sạch: sử dụng vật liệu phù hợp với tiêu chuẩn Class 1–100, vỏ thiết bị được đóng kín, và không tạo ra bất kỳ hạt bụi nào trong quá trình hoạt động.
Tại sao thiết bị này phù hợp với quy trình sản xuất
Wafer được đưa vào quy trình rửa và sấy ngay sau đó. Nếu không loại bỏ độ ẩm ngay lập tức, nước còn sót lại sẽ làm loãng hóa chất phản ứng quang học. Điều này dẫn đến các vấn đề như hiện tượng hình thành các giọt nước ở mép wafer, sự thay đổi kích thước của wafer sau quá trình chiếu sáng và sấy. Việc sử dụng thiết bị này giúp loại bỏ độ ẩm mà không làm nóng quá mức wafer, từ đó đảm bảo quy trình sấy diễn ra đúng như mong muốn. Kết quả là quá trình sấy diễn ra một cách nhất quán, và chất lượng sản phẩm vẫn ở mức ổn định.
Độ tin cậy của thiết bị
Độ tin cậy của thiết bị được đảm bảo nhờ khả năng hoạt động 24/7 mà không có sự gián đoạn nào. Sau 5.000 giờ hoạt động, sai số nhiệt độ vẫn ở mức dưới 5%.
Chi tiết kỹ thuật
Thiết bị này có thể được lắp đặt vào các hệ thống hiện có, với các giao diện cơ học và điện tử tiêu chuẩn. Tuy nhiên, độ chính xác trong việc căn chỉnh thiết bị rất quan trọng. Cần kiểm tra xem chùm tia có được căn chỉnh đúng vị trí hay không, và đảm bảo rằng tốc độ quét phù hợp với bộ điều khiển của máy phủ chất phản ứng quang học. Cần có thời gian ấm lên để thiết bị đạt trạng thái ổn định, và cần kiểm tra độ sáng của bóng đèn định kỳ. Trong môi trường có độ ẩm cao, cần đảm bảo hệ thống thông gió hoạt động tốt, để tránh hiện tượng ngưng tụ nước trở lại sau quá trình xử lý.