팹 내에서는 리소그래피 공정 및 포토레지스트의 소성 공정에서 온도 변동을 허용할 수 없습니다. 램프의 출력이 몇 도만 변해도 열 관리에 문제가 생기고, 공정이 중단됩니다. 우리는 이러한 상황을 방지하기 위해, 매번 공정을 진행할 때마다 온도가 일정하게 유지되도록 하는 특수한 필라멘트를 개발했습니다.
기술적으로 중요한 점은 무엇인가? 이 필라멘트는 할로겐 램프의 구조에 맞게 설계되었습니다. 즉, 정확한 형태와 반복 가능한 점화 기능을 갖추고 있습니다. 또한, 단파 및 중파 영역에서도 스펙트럼 안정성을 유지하여, 웨이퍼의 온도가 설정된 범위 내에 머물게 합니다. 이를 통해 일관된 발광 특성과 안정적인 저항값, 그리고 예측 가능한 가열 특성을 얻을 수 있습니다. 이 필라멘트는 클래스 1–100 등급의 클린룸 환경에서 사용될 수 있으며, 시작 시나 정상 작동 중에 가스가 나오거나 입자가 생성되지 않습니다.
왜 포토레지스트 처리에 적합한가? 포토레지스트는 과열된 부분이나 저온 부분을 용납하지 않습니다. 이 필라멘트는 균일한 가열을 제공함으로써, 정밀한 치수 제어와 결함 감소를 가능하게 합니다. 램프 간의 차이가 줄어들어 공정의 반복성이 향상되므로, 재작업이나 검증에 드는 시간도 줄어듭니다. 긴 수명과 안정적인 출력 덕분에 계획되지 않은 가동 중단이 줄어들고, 스케줄도 더 원활하게 진행됩니다. 목표 온도가 유지되므로 에너지 사용도 최적화됩니다.
중요한 사항들 기본 커넥터, 크기, 전압 등의 사양은 반드시 해당 램프의 사양에 맞게 설정해야 합니다. 설치하기 전에 오븐 및 리소그래피 장비와의 호환성을 확인해야 하며, 균일성과 노출 조건을 확인하기 위해 소량의 테스트를 진행해야 합니다. 필라멘트는 특수한 소모품으로 간주되므로, 밀폐된 상태로 보관하고 클린룸 환경에서만 취급해야 합니다. 이렇게 하면 공정의 일관성을 유지할 수 있습니다.