なぜウェーハの硬化処理において、熱風ではなく赤外線反射器を使うのか
半導体製造に携わったことがある人なら、熱風を使った加熱方式の非効率さはよく知っているでしょう。とても遅いのです。巨大な空間全体を加熱して、わずかなウェーハに熱を伝えるというのは、まるで家全体を温めるためにまず車道を温めようとするようなものです。
だからこそ、私たちは赤外線加熱方式を採用しています。空気を待つ代わりに、赤外線を使って直接対象物を加熱するのです。これなら効率的です。
秘密は反射器にある
実は、単独で使われる硬化ランプはかなり非効率的です。反射器がない場合、エネルギーの半分が無駄になってしまいます。
私たちは、高反射率のコーティングが施された反射器を使って、光子を再びウェーハに戻すのです。これにより熱が集中します。また、反射器の形状を調整することで、熱が均一に広がるようにできます。もう「冷たい部分」や「変形した基板」などはありません。均一に硬化できるのです。
熱慣性の問題を解消する
熱風式オーブンの大きな問題は、温度が上がるのに時間がかかることです。チャンバーの温度を上げるのにずいぶん時間がかかります。そして、別の工程で温度を変更する必要がある場合、また同じように時間を待つしかありません。これは大きな時間のロスです。
一方、赤外線システムではそのような問題はありません。スイッチを押すだけで、ウェーハの温度が数秒で目標値に達します。数秒です。
これにより、工場の規模を拡大する必要なく、より多くのウェーハを処理できます。
デメリットもある（完璧なものはない）
もちろん、これが魔法の杖のようなものだとは言いません。赤外線加熱方式にも独自の問題点があります。
このランプは非常に強力なため、大量の熱が発生します。硬化処理にかかる時間は短縮されますが、ランプ自体が発生する熱を処理できる冷却システムが必要です。
また、反射器を清潔に保つ必要があります。もし反射器が汚れると、汚染物質が表面に付着し、反射率が低下し、過度な熱が発生する可能性があります。
もし対流式ではなく赤外線反射器を使いたいと思っているなら、自分の処理時間をしっかり確認してみてください。もし一日のほとんどを物が温まったり冷めたりするのを待つのに費やしているのであれば、赤外線反射器を使うのが良いでしょう。