Berhentilah Menunggu Oven Bekerja: Mengapa Pemanasan IR Lebih Unggul daripada Pemanasan Udara Dalam Proses Produksi Semikonduktor
Jika Anda masih menggunakan sistem pemanasan udara untuk memanaskan wafer, sebenarnya Anda hanya membuang-buang waktu saja.
Coba pikirkan bagaimana cara kerja sistem pemanasan udara. Anda memanaskan udara terlebih dahulu, lalu menunggu hingga udara tersebut mampu memanaskan benda yang akan diproses. Proses ini sangat lambat. Ada jeda waktu yang menyebalkan di mana Anda harus menunggu. Di pabrik semikonduktor, waktu tunggu ini merupakan pemborosan uang.
Menghilangkan “Perantara” dalam Proses Pemanasan
Sistem pemanasan IR bekerja secara berbeda. Alih-alih memanaskan ruangan atau udara, sistem ini menggunakan radiasi elektromagnetik untuk mengirim energi langsung ke permukaan benda yang akan diproses.
Ini mirip dengan perbedaan antara memanaskan ruangan menggunakan pemanas dan berdiri di bawah sinar matahari. Anda tidak perlu menunggu hingga suhu ruangan mencapai titik tertentu. Cukup hidupkan saklar, foton akan langsung mengenai permukaan benda yang diproses.
Waktu yang diperlukan untuk proses pemanasan berkurang dari menit menjadi detik saja. Mungkin sepertinya tidak banyak, tetapi coba hitunglah. Jika Anda dapat menghemat 30 detik per siklus untuk 1.000 wafer, berarti Anda akan mendapatkan beberapa jam tambahan untuk proses produksi per shiftnya. Itu merupakan keuntungan yang besar.
Menghemat Ruang dan Energi
Sistem pemanasan udara membutuhkan banyak komponen, seperti kipas angin, saluran udara, dan kotak isolator yang digunakan untuk mencegah panas bocor ke mana-mana. Semua komponen ini membutuhkan banyak ruang.
Sebaliknya, lampu IR ukurannya sangat kecil. Lampu ini bisa diletakkan langsung di jalur pemrosesan. Selain itu, penggunaan sistem pemanasan IR lebih ramah lingkungan. Anda tidak perlu membuang-buang energi untuk memanaskan seluruh udara di dalam mesin—cukup panaskan saja wafernya.
Kekurangan Sistem Pemanasan IR
Saya tidak akan mengatakan bahwa sistem pemanasan IR merupakan solusi yang sempurna, karena memang bukan demikian. Sistem pemanasan IR memang cepat, tetapi efektivitasnya terbatas pada arah tertentu saja.
Udara panas akan menyelimuti permukaan benda seperti selimut. Sedangkan radiasi IR lebih mirip senter. Jika wafernya sedikit miring atau posisi lampunya tidak tepat, maka akan ada bagian yang tidak terpanaskan.
Anda perlu memastikan bahwa reflektor dan sensor digunakan dengan baik agar panasnya merata di seluruh permukaan wafer. Perlu diingat juga bahwa karena panasnya datang dengan cepat, Anda membutuhkan sistem pendinginan yang efektif. Jika sistem pendinginan tidak memadai, permukaan wafer akan rusak.
Tetapi jika penyetelan posisi lampu dilakukan dengan tepat, maka hasilnya akan sangat baik.