<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>晶圆 on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/zh/tags/%E6%99%B6%E5%9C%86/</link>
		<description>Recent content in 晶圆 on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>zh</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 27 Jul 2026 09:12:33 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/zh/tags/%E6%99%B6%E5%9C%86/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>用于晶圆的精密红外传感器</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/reducing-chamber-wall-heat-in-semiconductor-wafer-processing-via-directional-ir-heating/</link>
				<pubDate>Mon, 27 Jul 2026 09:12:33 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/reducing-chamber-wall-heat-in-semiconductor-wafer-processing-via-directional-ir-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;用于晶圆的精密红外传感器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;停止在晶圆处理腔室中浪费热量&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;大多数红外灯的问题在于：它们会将热量向各个方向散发。而在加热半导体晶圆时，我们希望热量能够直接作用于晶圆表面，而不是被浪费在昂贵的机器内部结构上。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>高能效晶圆加热器</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/ensuring-electrical-integrity-in-energy-efficient-wafer-heaters-through-100-dielectric-testing/</link>
				<pubDate>Mon, 27 Jul 2026 06:33:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/ensuring-electrical-integrity-in-energy-efficient-wafer-heaters-through-100-dielectric-testing/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;高能效晶圆加热器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;为什么我们要如此重视晶圆加热器的绝缘性能测试&#34;&gt;为什么我们要如此重视晶圆加热器的绝缘性能测试&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;我们制造的晶圆加热器必须具备极高的效率，同时还要满足严格的热性能要求。问题在于，当大量电能被集中在狭小的空间内时，容错率极低。一旦绝缘层出现哪怕微小的漏电现象，设备就会失效，或者导致基板受到污染。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>晶圆固化灯用反射器</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 20 Jul 2026 11:43:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;晶圆固化灯用反射器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;为什么我们在晶圆固化过程中放弃热风加热转而使用红外反射器&#34;&gt;为什么我们在晶圆固化过程中放弃热风加热，转而使用红外反射器？&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;如果您从事过半导体加工工作，就应该知道热风循环加热的弊端。这种方式的效率极其低下——实际上，我们是在让一整个空间的空气变热，只为让少量热量传递到小小的晶圆上。这就好比试图先加热车道来为房子供暖一样。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>晶圆加工设备用温度传感器</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/</link>
				<pubDate>Thu, 09 Jul 2026 04:08:36 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;晶圆加工设备用温度传感器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在晶圆加工过程中，每一瓦特的能量都必须得到充分利用。传统的做法是使用普通温度传感器，但这只会让大量热量白白散失到空气中。既然如此，我们便设计出了另一种传感器：这种传感器被黄金包裹着，能够将热量重新引导回需要的地方。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>MEMS传感器晶圆干燥加热器</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;MEMS传感器晶圆干燥加热器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;请观察晶圆从清洗站出来时的状态。晶圆上不允许有水痕存在。光刻胶无法承受温度上的突然变化。如果干燥设备无法达到理想的温度，那么产品的合格率就会下降——这就需要重新加工，进而导致更多产品被报废。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>晶圆除湿灯</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/wafer-moisture-removal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;晶圆除湿灯&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;在制造车间里，清洁后残留的湿气可不是小事。这些湿气会在光刻过程中渗透进感光剂中，从而影响产品的尺寸精度，最终导致产量下降。而晶圆除湿灯则能解决这个问题——它在光刻过程开始之前就清除晶圆表面的湿气，从而避免感光剂受到损害。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>晶圆加热的安全距离</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;晶圆加热的安全距离&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;在光刻车间&lt;/a&gt;中，光阻烘烤过程其实是一&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;个对温度控&lt;/a&gt;制要求极高的工序。如果温度偏差达到10毫秒，或者加热器与晶圆之间&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;的间距出现&lt;/a&gt;1毫米的误差，那么就很容易导致图案变形、边缘缺陷，甚至使得整批产品无法使用。因此，为晶圆加热而设定的安全距离并非只是为了方便操作，而是为了确保产品的合格率以及设备的正常运行。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;我们设计的加热模块能够将加热区域与敏感的光学元件及晶圆保持一定的安全距离，同时确保热量能够均匀地传递到晶圆上。该系统能够将晶圆上的温度控制在±0.1°C的范围内，从而确保烘烤过程的稳定性，满足工艺要求。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>蓝宝石晶圆处理加热器</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/sapphire-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:09:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/zh/posts/sapphire-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;蓝宝石晶圆处理加热器&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;在晶圆车间&lt;/a&gt;，该2英寸蓝宝石晶圆正置于光刻轨道下，等待软烘烤。需要在整个表面保持110°C，而不仅仅是热电偶的读数。温度低于此值，光&lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;刻胶&lt;/a&gt;轮廓会发生漂移；温度过高，则会消耗过多的热预算。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;技术上真正关键的因素&#34;&gt;技术上真正关键的因素&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;用于蓝宝石晶圆加工的加热器是短波红外线（SWIR）石英发射器。它们能够快速且直接地传递热量，热惯性极低。晶圆台面上的均匀性保持在±0.1°C，批次间的重复性控制在±0.2°C之内。&lt;br&gt;&#xA;该平台适用于Class 1–100洁净室，所选零部件在稳定运行阶段保持零颗粒产生。设备提供24/7的可靠性，无计划停机，且光刻胶烘烤曲线具有足够的重复性，确保线宽控制稳定。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
