Wafer on Infrared Glass Heating Technology

Cảm biến hồng ngoại độ chính xác dành cho wafer

Mon, 27 Jul 2026 09:12:33 +0800

Hãy ngừng lãng phí nhiệt lượng trong các buồng xử lý wafer của bạn đi!

Đây chính là vấn đề của hầu hết các loại đèn hồng ngoại: chúng tỏa nhiệt ra mọi hướng. Khi bạn muốn làm nóng wafer bán dẫn, bạn muốn năng lượng được truyền trực tiếp vào bề mặt wafer. Bạn chắc chắn không muốn nhiệt lượng này lan vào các bộ phận bên trong máy móc, vốn có giá trị rất cao.

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Mon, 27 Jul 2026 06:32:25 +0800

Tại sao chúng tôi lại quan tâm đến việc kiểm tra khả năng cách điện của các bộ phận sưởi ấm trong máy gia nhiệt wafer

Chúng tôi chế tạo những bộ phận sưởi ấm có hiệu suất cao, trong khi vẫn phải tuân thủ các tiêu chuẩn về nhiệt độ rất khắt khe. Vấn đề là, khi phải chứa một lượng điện năng lớn trong một không gian nhỏ, thì không còn chỗ cho sai số nào cả. Chỉ cần có một lỗ hổng nhỏ trong lớp cách điện thôi, thiết bị sẽ ngừng hoạt động hoặc gây ra hiện tượng nhiễm bẩn bề mặt wafer.

Phần phản xạ ánh sáng cho bóng đèn sấy wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:43:19 +0800

Tại sao chúng ta chuyển sang sử dụng bộ phản xạ sóng hồng ngoại thay vì khí nóng trong quá trình xử lý wafer
Nếu bạn từng làm việc trong lĩnh vực chế tạo linh kiện bán dẫn, bạn chắc hẳn đã biết rõ về phương pháp sử dụng khí nóng để làm nóng wafer. Phương pháp này khá chậm. Bạn phải làm nóng toàn bộ không gian xung quanh wafer chỉ để đưa nhiệt lượng vào wafer một cách hiệu quả. Điều này giống như việc cố gắng làm ấm cả ngôi nhà bằng cách làm nóng lối vào trước vậy.

Cảm biến nhiệt độ dành cho công cụ xử lý wafer

Thu, 09 Jul 2026 04:08:36 +0800

Tận dụng từng watt năng lượng trong quá trình xử lý wafer
Bạn biết đấy, trong quá trình xử lý wafer, mỗi watt năng lượng đều phải được sử dụng một cách hiệu quả. Phương pháp truyền thống – sử dụng các cảm biến nhiệt thông thường – chỉ khiến nhiệt lượng bị lãng phí. Vì vậy, chúng tôi đã tạo ra một loại cảm biến khác: cảm biến nhiệt được phủ bằng vàng, giúp hướng nhiệt trở lại chính vị trí cần thiết.

Máy sấy wafer cảm biến MEMS

Mon, 29 Jun 2026 07:07:40 +0800

Hãy quan sát cách tấm wafer được đưa ra khỏi khu vực rửa. Không được có dấu vết của nước trên bề mặt wafer. Chất phủ quang học không thể chịu được những biến đổi nhiệt độ đột ngột. Nếu máy sấy không thể duy trì nhiệt độ ổn định, chất lượng sản phẩm sẽ giảm sút – điều này dẫn đến việc phải làm lại quy trình sản xuất, và nhiều lô hàng sẽ bị hủy bỏ.

Đèn loại bỏ độ ẩm trong wafer

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Trên dây chuyền sản xuất, độ ẩm còn sót lại sau quá trình vệ sinh không chỉ gây phiền toái mà còn khiến hóa chất phản ứng quang học bị ảnh hưởng. Điều này dẫn đến sự thay đổi kích thước của các chi tiết trên wafer, từ đó làm giảm chất lượng sản phẩm. Thiết bị loại bỏ độ ẩm giúp giải quyết vấn đề này bằng cách loại bỏ độ ẩm trên bề mặt wafer trước khi quá trình in ấn diễn ra.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800

Trong quy trình sản xuất, việc nung phim感光材 là một bước quan trọng cần tuân thủ chặt chẽ các quy định về nhiệt độ. Nếu nhiệt độ thay đổi 10 ms, hoặc khoảng cách giữa bộ gia nhiệt và tấm wafer lệch 1 mm, thì kết quả là hình dạng của tấm wafer sẽ bị biến dạng, xuất hiện các khuyết tật ở mép wafer, hoặc toàn bộ sản phẩm phải bị loại bỏ. Khoảng cách an toàn xung quanh tấm wafer không phải là khu vực thoải mái để hoạt động – đó là ranh giới giúp duy trì chất lượng sản phẩm và tính ổn định của thiết bị.