<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Фотополімер on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/</link>
		<description>Recent content in Фотополімер on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/uk/tags/%D1%84%D0%BE%D1%82%D0%BE%D0%BF%D0%BE%D0%BB%D1%96%D0%BC%D0%B5%D1%80/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для м якого випалювання фоторезисту</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Лампа для м якого випалювання фоторезисту&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На літографічному покритті незначні коливання температури під час процедури випалювання не є серйозною проблемою. Вони проявляються у зміні ширини ліній, наявності розчинників у фотополімері, а також у появі дефектів через кілька годин після процедури. Щоб уникнути цього, потрібна лампа, яка буде підтримувати потрібний рівень температури фотополімера – це необхідно для кожного циклу обробки.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми використовуємо випромінювачі у виді ближнього інфрачервоного світла, чия спектральна характеристика дозволяє ефективно та рівномірно нагрівати фотополімер. Це дозволяє уникнути різниці температур між поверхнею та нижньою частиною плівки. Рівномірність температури на всій поверхні плівки становить ±0,1°C, що забезпечує однакову в’язкість фотополімера та стабільність процесу нанесення покриття. Система може працювати безперервно протягом 5 000+ годин, з коливаннями інтенсивності світла менше 5%. Термічний профіль залишається стабільним у всіх партах.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Модуль інфрачервоного висушування фотополімеру</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/photoresist-drying-infrared-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Модуль інфрачервоного висушування фотополімеру&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На літого-підлозі навіть напівградусна відхилення у процесі термообробки не є „допустимими“. Це означає, що відповідний віфер буде відкинутий. Процес висихання фоточутливої суміші залежить від температурного режиму; інфрачервоний модуль є ключовим елементом, який визначає успіх чи провал цього процесу.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що насправді має значення&lt;/strong&gt;&#xA;Ми використовуємо інфрачервоний модуль для висихання фоточутливої суміші, який забезпечує температурну однорідність на рівні віфера в межах ±0,1°C. Це також дозволяє зберігати стабільні параметри термообробки з партії до партії. Вибір випромінювача є свідомим – це ближнє інфрачервоне випромінювання, оскільки воно забезпечує швидку та ефективну реакцію, а також точний контроль спектру. Це усуває проблеми, пов’язані з температурними затримками. Система призначена для використання в чистих кімнатах класу 1–100 та розроблена так, щоб не створювати жодних частинок пилу – це підтверджується за допомогою контролю за частинками на місці. Система може працювати 24/7 без перерв, а час обслуговування підбирається з урахуванням потреб під час зміни продукції.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
