<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеєм on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Віфлеєм on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Нагрівач для сушіння пластин сенсорів MEMS</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Нагрівач для сушіння пластин сенсорів MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Подивіться, як пластинка виходить з станції промивання. Не повинно бути жодних слідів води. Фоторезист не може переносити раптові зміни температури. Якщо сушарка не може досягти потрібного рівня температури, якість продукції погіршується – доводиться проводити повторну обробку, що призводить до відкидання цілої партії продукції.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Як це працює з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Ми створили нагрівач для сушіння пластинок MEMS на основі швидко реагуючих елементів нагріву, сумісних із умовами чистої кімнати, а також на основі кварцових матеріалів. Це дозволяє зберігати однорідність температури на поверхні пластинки в межах ±0,1°C по всій активній зоні. Таким чином процес сушіння відбувається точно відповідно до заданих параметрів.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Безпечна відстань для нагрівання пластини</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/uk/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Безпечна відстань для нагрівання пластини&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій лінії процес висушування фотополімеру є процесом, який потребує суворого дотримання певних температурних параметрів. Якщо температура змінюється на 10 мс чи виникає відхилення у 1 мм між нагрівачем та пластинкою, це призводить до пошкодження структури пластинки, утворення дефектів на краях чи необхідності викиду продукції. Ця безпечна відстань навколо пластинки – це не просто зона комфорту, а рамка, яка забезпечує стабільність процесу та неушкодженість обладнання.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ось як ми створили модуль нагріву. Ми розмістили його на певній безпечній відстані від пластинки, щоб гаряча зона не впливала на чутливі елементи обладнання та саму пластинку. Водночас це забезпечує ефективну та швидку передачу тепла. Система забезпечує стабільність температури на рівні ±0,1°C по всій поверхні пластинки, тож процес висушування відбувається в межах встановлених параметрів.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
