หลอดอบสำหรับเครื่องเคลือบสปิน

Tue, 02 Jun 2026 06:07:05 +0800

บนชั้นลิโทกราฟี การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอบเพียงครึ่งองศาก็เพียงพอที่จะทำให้ต้องทิ้งเวเฟอร์ล็อตทั้งหมด การอบแบบ soft bake และ hard bake ไม่ใช่แค่รอบความร้อนเท่านั้น แต่เป็นการควบคุมมิติ หากหลอดไฟไม่สามารถรักษาค่าที่ตั้งไว้ให้ทั่วทั้งเวเฟอร์ได้ ความสม่ำเสมอของ CD จะเสียหายและผลผลิตจะลดลงตามไปด้วย

เราออกแบบหลอดอบของ spin coater โดยใช้หลอด quartz halogen ชนิด near-infrared (NIR) ซึ่งให้การตอบสนองความร้อนโดยตรงและรวดเร็ว พร้อมกับการแผ่รังสีที่เสถียร ระบบนี้มีเป้าหมายความสม่ำเสมอบนเวเฟอร์ในช่วง ±0.1°C และความสามารถในการทำซ้ำทำให้การกำจัดตัวทำละลายเป็นไปอย่างสม่ำเสมอในแต่ละรอบการผลิต

ชุดหลอดไฟได้รับการรับรองสำหรับห้องสะอาด Class 1–100 เส้นทางแสงถูกปิดผนึกอย่างมิดชิดและใช้วัสดุที่ปล่อยก๊าซน้อย ช่วยควบคุมจำนวนอนุภาคให้คงที่ การแผ่รังสีคงที่เป็นเวลาเกิน 5,000 ชั่วโมง โดยมีการเปลี่ยนแปลงความเข้มแสงน้อยกว่า 5% จึงทำให้งบประมาณความร้อนของคุณไม่เปลี่ยนแปลงตามเวลา

เหตุผลที่หลอดนี้ทนทานในสภาพแวดล้อมของ spin coater คือ การเร่งความร้อนที่รวดเร็ว การรักษาอุณหภูมิอย่างแม่นยำ และการกลับสู่จุดตั้งค่าอย่างทันทีระหว่างเวเฟอร์ คุณจะได้รอบอบที่สั้นลงโดยไม่เกิดการเกินอุณหภูมิ ใช้พลังงานต่อล็อตน้อยลง และลดจำนวนหน้ากากที่ต้องแก้ไขซ่อมเนื่องจากปัญหา footing และ scum ผลลัพธ์คือการควบคุม CD ที่คาดการณ์ได้และลดปัญหาความคลาดเคลื่อนที่เกี่ยวข้องกับความแปรผันของการอบ

NIR ให้ทั้งความเร็วและความสม่ำเสมอ แต่หลอดไฟต้องการไฟฟ้าสะอาดและการจัดแนวระบบแสงอย่างแม่นยำ การสั่นของแรงดันไฟฟ้าหรือการจัดหลอดไฟผิดตำแหน่งจะแสดงออกมาเป็นจุดร้อน ก่อนติดตั้งควรตรวจสอบซ็อกเก็ตหลอดไฟและอินเทอร์เฟซความร้อนของ spin coater

ควรวางแผนการสอบเทียบความเข้มแสงและตรวจสอบหน้าต่างอย่างสม่ำเสมอ ซึ่งเป็นสิ่งที่ช่วยรักษาความสม่ำเสมอ ±0.1°C ไว้ได้อย่างต่อเนื่องเดือนต่อเดือน

เครื่องเคลือบ on Infrared Glass Heating Technology

หลอดอบสำหรับเครื่องเคลือบสปิน