<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Мягкий on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/ru/tags/%D0%BC%D1%8F%D0%B3%D0%BA%D0%B8%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Мягкий on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/ru/tags/%D0%BC%D1%8F%D0%B3%D0%BA%D0%B8%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для мягкой обработки фотополимера</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/ru/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/ru/posts/photoresist-soft-bake-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Лампа для мягкой обработки фотополимера&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На литографическом столе незначительные колебания температуры не приводят к серьезным сбоям. Они проявляются в изменении ширины линий, наличии растворителей в фоторезисте, а также в появлении бракованных участков через несколько часов после обработки. Необходимо использовать устройство, которое будет поддерживать температуру фоторезиста в заданном диапазоне на протяжении всего процесса обработки.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение с технической точки зрения&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы используем излучатели в диапазоне ближнего инфракрасного света, спектральный профиль излучения которых позволяет быстро и равномерно нагревать фоторезист. Это предотвращает разницу температур между поверхностью и нижней частью пленки. Равномерность температуры на всей поверхности пластины составляет ±0,1°C, что обеспечивает однородную вязкость фоторезиста и стабильное его действие при нанесении. Система может работать непрерывно без образования частиц; она соответствует требованиям чистых помещений от класса 1 до класса 100. Интенсивность излучения остается стабильной в течение более 5000 часов, с отклонением менее 5%. Тепловой профиль остается неизменным от партии к партии.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
