Вафля on Infrared Glass Heating Technology

Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS

Mon, 29 Jun 2026 07:07:39 +0800

Наблюдайте за тем, как пластина выходит из устройства для промывки. Не допускается наличия следов воды на поверхности пластины. Фотолитографический слой не должен подвергаться воздействию внезапных перепадов температуры. Если сушилка не может обеспечить правильный профиль нагрева, качество продукции снижается – приходится проводить дополнительную обработку или выбрасывать партию продукции.

Что происходит на техническом уровне? Мы разработали нагреватель для сушки пластин MEMS-датчиков, используя нагревательные элементы с быстрой реакцией и соответствующие стандартам чистых комнат, а также кварцевые материалы для теплообмена. Это позволяет сохранять однородность температуры на поверхности пластины в пределах ±0,1°C по всей активной зоне, что обеспечивает точное соблюдение рекомендаций по процессу сушки.

Лампа для удаления влаги с ваферов

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

На производственной площадке влага, оставшаяся после очистки, представляет собой серьезную проблему. Она проникает в фотополимер во время процедуры нагрева, что влияет на размеры деталей и приводит к снижению качества изделий. Устройство для удаления влаги с поверхности wafer решает эту проблему, удаляя влагу до того, как это негативно скажется на процессе литографии.

Что важно при работе устройства
Мы создали это устройство на основе галогенных светильников с короткими волнами света, помещенных в кварцевую оболочку. Это позволяет быстро нагревать поверхность с минимальными затратами энергии. Устройство позволяет быстро достичь нужной температуры – за несколько секунд, а также обеспечивает однородность температуры на всей поверхности wafer в пределах ±0,1°C. Профиль луча подстраивается под диаметр wafer и скорость сканирования, что позволяет контролировать температурный режим и сохранять стабильность химического состава фотополимера. Устройство соответствует стандартам чистых комнат: используются материалы класса 1–100, корпус закрыт, и при постоянной работе не возникает осадка частиц.

Расстояние безопасности при нагреве пластины

Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800

На производственной линии процесс нагрева фотополимера требует соблюдения строгих температурных параметров. Даже небольшое отклонение температуры в 10 мс или некорректное расположение нагревателя по отношению к пластине могут привести к нарушению структуры изображения на пластине, появлению дефектов на краях или необходимости выбраковки продукции. Эта безопасная зона вокруг пластины – это не просто комфортная зона; это граница, которая обеспечивает сохранение качества продукции и целостности оборудования.

Мы спроектировали модуль нагрева таким образом, чтобы он находился на определенном расстоянии от пластины, тем самым изолируя зону нагрева от чувствительных элементов оборудования. Это позволяет обеспечить эффективную передачу тепла. Система сохраняет стабильность температуры на уровне ±0,1°C по всей площади пластины, что гарантирует соблюдение требуемых параметров нагрева.

Печь для обработки сапфировых пластин

Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800

На производственном участке 2-дюймовый сапфировый вафер установлен под литографической системой, ожидая этап Soft Bake. Температура должна составлять 110°C по всей поверхности, а не только по показаниям термопары. Если она ниже — профиль фоторезиста смещается. Если выше — происходит перерасход теплового бюджета.

Что действительно важно с технической точки зрения

Нагреватели, используемые для обработки сапфировых ваферов, представляют собой кварцевые излучатели коротковолнового инфракрасного диапазона (SWIR). Они быстро и напрямую подают тепло, обладая минимальной тепловой инерцией. Однородность температуры на уровне вафера сохраняется в пределах ±0.1°C по всей площадке закрепления, а повторяемость межсменных настроек находится в диапазоне ±0.2°C.