Lâmpada de remoção de umidade em wafers

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Na linha de produção, a umidade que fica para trás após a limpeza não é apenas um incômodo. Ela penetra no fotorevestimento durante o processo de secagem, afetando as dimensões críticas do componente e causando perdas na qualidade do produto final. A lâmpada de remoção de umidade resolve esse problema, eliminando a umidade da superfície antes que isso prejudique o processo de litografia.

O que é importante por trás disso tudo Construímos essa lâmpada com emissores de halogênio de onda curta, em um invólucro de quartzo. O objetivo é obter um aquecimento rápido e localizado da superfície, com mínimo acúmulo de calor. Isso permite uma resposta rápida, com precisão de ±0,1°C. O perfil do feixe é ajustado de acordo com o diâmetro do wafer e a velocidade de varredura, garantindo assim que o controle térmico seja mantido e que a química do fotorevestimento permaneça intacta. A compatibilidade com ambientes limpos também é garantida: materiais compatíveis com as normas de classe 1–100, estrutura selada e zero geração de partículas durante o funcionamento contínuo.

Umidade on Infrared Glass Heating Technology

Lâmpada de remoção de umidade em wafers