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		<title>Fotopolímero on Infrared Glass Heating Technology</title>
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				<title>Módulo infravermelho para secagem de fotoresist</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/pt/posts/photoresist-drying-infrared-module/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Módulo infravermelho para secagem de fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No chão de pedra, uma diferença de meio grau na temperatura durante o processo de secagem do fotoresista não é considerada “tolerância”. Trata-se, na verdade, de um wafer que não pode ser utilizado. A secagem do fotoresista depende diretamente do controle térmico; o módulo infravermelho é o fator decisivo para determinar se o wafer será aceito ou rejeitado.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;O que realmente importa por trás dos panos de fundo&lt;/strong&gt;&#xA;Utilizamos um módulo de secagem por infravermelhos que mantém a uniformidade térmica ao nível do wafer dentro de ±0,1°C. Além disso, esse módulo garante que os perfis de secagem sejam consistentes de lote em lote. A escolha do tipo de emissor é intencional: o infravermelho próximo, pois oferece uma resposta rápida e preciso controle espectral. Isso evita atrasos térmicos e desvios na temperatura. O sistema foi projetado para ser utilizado em salas limpas de classe 1–100, com o objetivo de eliminar completamente a geração de partículas, o que é verificado por meio de monitoramento em tempo real. O sistema deve funcionar 24/7, sem interrupções indesejadas. O período de manutenção está sincronizado com as trocas de equipamentos.&lt;/p&gt;</description>
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