Refletor para lâmpada de cura de wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:43:19 +0800

Por que estamos deixando de usar ar quente em favor de refletores de infravermelho na cura de wafers
Se você já trabalhou com processamento de semicondutores, conhece bem o método de uso de ar quente para aquecimento. É um processo lento: basicamente, é preciso aquecer todo o ar presente numa sala enorme, só para que algum calor chegue até o pequeno wafer. É como tentar aquecer uma casa aquecendo primeiro a entrada da casa.

Fábrica de cura de adesivos

Fri, 19 Jun 2026 06:05:37 +0800

Na linha de produção, você sabe como as coisas funcionam: mesmo uma pequena variação na temperatura durante o processo de cura do adesivo utilizado para fixar o chip afeta a força de conexão dos fios e a resistência do adesivo. Isso acaba fazendo com que seja necessário refazer o trabalho ou descartar os produtos defeituosos. É preciso ter um controle preciso da temperatura, ciclo após ciclo, sem exceções.

O que é importante por trás disso tudo
Nossa plataforma de cura mantém a temperatura estável em torno de ±0,1°C em todo o substrato, utilizando emissores de infravermelho de onda curta com controle em circuito fechado de alta velocidade. A zona quente permanece compatível com as especificações da Classe 1–100. Além disso, verificamos que não há geração de partículas, através de monitoramento em tempo real. A repetibilidade é garantida pelo sistema térmico: uniformidade nas linhas de conexão, taxas de aquecimento controladas e tempos de exposição precisos. O consumo de energia é medido com precisão, e não é algo estimado – os perfis típicos permitem menor carga no equipamento, mantendo ainda assim o calor necessário para o processo.

Curar on Infrared Glass Heating Technology

Refletor para lâmpada de cura de wafer

Fábrica de cura de adesivos