<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/pl/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/pl/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Grzałka do suszenia płytek czujników MEMS</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/pl/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/pl/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Grzałka do suszenia płytek czujników MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Proszę zobaczyć, jak płytkę opuszcza stacja płukania. Nie wolno mieć żadnych śladów wody na powierzchni płytki. Fotorezyst nie może tolerować nagłych zmian temperatury. Jeśli suszarka nie może dostarczyć odpowiedniej temperatury, jakość produktu spada – konieczna jest dodatkowa obróbka, co oznacza utratę całej partii produktu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Co się dzieje technicznie?&lt;/strong&gt;&#xA;Stworzyliśmy suszarkę do płytek sensorów MEMS na bazie szybko reagujących elementów grzewczych, dostosowanych do warunków panujących w pomieszczeniach czystych, oraz na bazie kwarcu jako materiału termicznego. Dzięki temu uzyskujemy jednolitość temperatury na całej powierzchni płytki w granicach ±0,1°C w obszarze aktywnym, co zapewnia precyzyjne realizowanie procedur suszenia.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
