Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafer

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Op de productielijn is het vocht dat na het schoonmaken achterblijft geen klein probleem. Het dringt door in de fotoresist tijdens het zachte bakken, waardoor de essentiële dimensies veranderen. Dit leidt tot verlies aan kwaliteit van de producten. De lamp voor het verwijderen van vocht uit de wafers lost dit probleem op door het oppervlaktovocht te verwijderen voordat de lithografieproces wordt beïnvloed.

Wat belangrijk is We hebben de lamp ontworpen met behulp van korte-golfhalogeenemitters die zich bevinden in een kwartsomhulsel. Hierdoor wordt het oppervlak snel op temperatuur gebracht, met minimale thermische energieverbruik. Er wordt snel een gewenste temperatuur bereikt, en de uniformiteit op het oppervlak van de wafer ligt binnen ±0,1°C. Het straalprofiel is aangepast aan de diameter van de wafer en de scanningsnelheid, zodat de thermische balans behouden blijft en de chemische eigenschappen van de fotoresist niet worden beïnvloed. De lamp is compatibel met schone ruimten: gebruikte materialen voldoen aan de classificatie 1–100, het apparaat heeft een afgesloten behuizing en er worden geen deeltjes gegenereerd tijdens het continu gebruik.

Saffier wafer verwerkingsverwarmer

Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800

Op de fabrieksvloer

Die 2-inch saffierwafel ligt onder de lithografietrein te wachten op een Soft Bake. Je hebt 110°C over het hele oppervlak nodig, niet alleen wat de thermokoppel leest. Alles wat lager is, laat de fotoresistprofiel afdrijven. Als je het hoger duwt, verbrand je in je thermische budget.

Wat er technisch echt toe doet

De verwarmers die we gebruiken voor saffierwafelverwerking zijn kortgolvige infrarood (SWIR) kwarts-emitteren. Ze geven warmte direct en snel af, met zeer weinig thermische traagheid. De uniformiteit op wafer-niveau blijft binnen ±0,1°C over de chuck, en de shift-to-shift herhaalbaarheid blijft binnen ±0,2°C. Het platform is compatibel met Class 1–100 schone kamers, en de onderdelen zijn gekozen zodat de deeltjesgeneratie op nul blijft tijdens de steady-state werking. Je krijgt 24/7 betrouwbaarheid zonder ongeplande stilstand, en de fotoresist bakprofielen zijn herhaalbaar genoeg om de lijnbreedte controle vast te houden.

Wafer on Infrared Glass Heating Technology

Lamp voor het verwijderen van vocht uit wafer

Saffier wafer verwerkingsverwarmer

Op de fabrieksvloer

Wat er technisch echt toe doet