Wafel on Infrared Glass Heating Technology

Precisie IR sensor voor wafer

Mon, 27 Jul 2026 09:12:33 +0800

Stop met het verspillen van warmte in je waferkamers
Het probleem met de meeste IR-lampen is dat ze warmte in alle richtingen uitzenden. Wanneer je een halfgeleiderwafer opwarmt, wil je dat de energie rechtstreeks op het substraat terechtkomt. Je wilt zeker niet dat deze energie zich verspreidt over de binnenwanden van de machine, die natuurlijk veel geld kosten.

Als je apparaat als een soort enorme warmtekern fungeert, wordt het een puinhoop. Je verspilt energie, en het frame van de machine begint door de hitte uit te dijen. Dat is een probleem dat je echt niet wilt hebben.

Energie efficiënte chipverwarmer

Mon, 27 Jul 2026 06:33:14 +0800

Waarom we zo veel aandacht besteden aan het testen van de isolatie van waferverwarmers
We bouwen waferverwarmers die zeer efficiënt moeten werken, terwijl ze ook voldoen aan zeer strenge thermische eisen. Het probleem is dat wanneer je veel vermogen in een klein ruimteprofiel probeert te stoppen, er geen ruimte is voor fouten. Eén kleine lek in de isolatie kan al leiden tot defecten in het apparaat of tot een besmet ondergrondmateriaal.

Daarom geloven we niet in ‘toevallige controles’. Ieder verhittingselement dat onze fabriek verlaat, wordt grondig getest op zijn weerstand tegen hoge spanningen en op de kwaliteit van de isolatie. Er zijn geen uitzonderingen.

Reflector voor wafer curing lamp

Mon, 20 Jul 2026 11:43:19 +0800

Waarom we kiezen voor infraroodreflectoren in plaats van hete lucht bij het drogen van wafern
Als je al enige ervaring hebt met de verwerking van halfgeleiders, weet je vast hoe langzaam het proces is wanneer er gebruik wordt gemaakt van hete lucht. Je moet immers een enorme hoeveelheid lucht opwarmen, alleen maar om wat warmte over te dragen aan een piepkleine wafer. Het is net alsof je een huis probeert op te warmen door eerst de oprit op te warmen.

Temperatuursensor voor wafertool

Thu, 09 Jul 2026 04:08:36 +0800

Iedere watt optimaal benutten in het bewerken van wafers

Je weet hoe het werkt bij het bewerken van wafers: elke watt energie moet zijn functie vervullen. De oude methode – waarbij standaard temperatuursensoren worden gebruikt – zorgt er juist voor dat er veel warmte verloren gaat in de lucht. Dat is verspilling. Daarom hebben we iets anders ontworpen: een temperatuursensor die is omhuld met goud en speciaal is ontworpen om de warmte terug te dirigeren naar waar deze thuishoort.

MEMS sensorwafer droogheater

Mon, 29 Jun 2026 07:07:43 +0800

Kijk hoe een wafer van de spoelstation afkomt. Er mogen geen watervlekken op zitten. De fotorezyst kan geen plotselinge temperatuurschommelingen verdragen. Als de droger niet de juiste temperatuur kan bereiken, neemt de kwaliteit van de wafer af – dat betekent nog meer herwerkingen en nog meer batches die weggegooid moeten worden.

Wat er technisch gezien gebeurt We hebben de droogheater voor MEMS-sensoren ontworpen met behulp van snel reagerende, klaarsteenklaare verhittingselementen en een kwarts gebaseerd thermisch ontwerp. Hierdoor blijft de uniformiteit van de temperatuur op het oppervlak van de wafer binnen ±0,1°C, zodat de verschillende droogprocessen precies volgens het voorschrift kunnen worden uitgevoerd.

Veilige afstand voor waferverwarming

Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800

In de productieruimte is het belangrijk om de juiste temperatuur te behouden tijdens het verhitten van de fotorezist. Een temperatuurschommeling van 10 ms of een afwijking van 1 mm tussen de verwarmingsapparatuur en de wafer kan leiden tot problemen als misvormde patronen of defecte producten. Die veiligheidsafstand rondom de wafer is geen ‘comfortzone’ – het is eerder een grens die ervoor zorgt dat de kwaliteit van de producten en de apparatuur behouden blijven.

Zo hebben we het verwarmingssysteem ontworpen: het wordt op een vaste afstand van de wafer geplaatst, zodat de hete zone gescheiden blijft van de gevoelige apparatuur en de wafer zelf. Hierdoor wordt er een efficiënte warmteoverdracht gerealiseerd. Het systeem houdt de temperatuur over de hele wafer op ±0,1°C constant, zodat de vereisten van het productieproces worden nageleefd.