Drogen on Infrared Glass Heating Technology

Energieaudit voor fabrieksdroging

Fri, 24 Jul 2026 12:00:40 +0800

Koolstofvermindering in de fabriek: waarom infraroodverwarming gewoon logisch is

Laten we eerlijk zijn: veel fabrieken maken nog steeds gebruik van ouderwetse convectieovens of traditionele verwarmingsapparaten voor het drogen van wafers. Zo is het altijd al gedaan. Het probleem is echter dat deze systemen veel energie verbruiken. Ze besteden de helft van hun tijd aan het opwarmen van de hele luchtkamer alleen maar om een paar wafers te drogen. Dat is pure verspilling van energie.

We hebben een betere manier gevonden. Door deze apparaten te vervangen door gerichte infraroodlampen, kunnen we het energieverbruik drastisch verminderen en daarmee ook de koolstofvoetafdruk van het droogproces verminderen.

MEMS sensorwafer droogheater

Mon, 29 Jun 2026 07:07:43 +0800

Kijk hoe een wafer van de spoelstation afkomt. Er mogen geen watervlekken op zitten. De fotorezyst kan geen plotselinge temperatuurschommelingen verdragen. Als de droger niet de juiste temperatuur kan bereiken, neemt de kwaliteit van de wafer af – dat betekent nog meer herwerkingen en nog meer batches die weggegooid moeten worden.

Wat er technisch gezien gebeurt We hebben de droogheater voor MEMS-sensoren ontworpen met behulp van snel reagerende, klaarsteenklaare verhittingselementen en een kwarts gebaseerd thermisch ontwerp. Hierdoor blijft de uniformiteit van de temperatuur op het oppervlak van de wafer binnen ±0,1°C, zodat de verschillende droogprocessen precies volgens het voorschrift kunnen worden uitgevoerd.

Infraroodmodule voor het drogen van fotoresistent

Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800

Op de lithofloer mag er geen verschil van een halve graad optreden tijdens het drogen van de photoresist. Dat is geen ‘tolerantie’, maar betekent dat de wafer niet bruikbaar is. Het drogen van de photoresist hangt af van de thermische omstandigheden; het infraroodmodule is hierbij cruciaal voor het bereiken van een goede kwaliteit.

Wat er echt toe doet Wij gebruiken een infraroodmodule voor het drogen van de photoresist. Hierdoor blijft de thermische uniformiteit op het niveau van de wafer binnen ±0,1°C. Bovendien zorgt deze module ervoor dat de droogtijden consistent blijven, lot na lot. De keuze voor infraroodstraling is bewust gemaakt: het zorgt voor een snelle en nauwkeurige reactie, met goed controle over het spectrum. Dit voorkomt problemen als thermische vertragingen of oververhitting. Het systeem is ontworpen voor schoonruimtes van klasse 1–100, en het zorgt voor nul partikelvorming, wat wordt gecontroleerd met behulp van in-situ monitoring. Het systeem kan 24/7 draaien, zonder onverwachte stilstand. De service-intervallen zijn zo gepland dat ze passen bij de wisseling van producten.