Wafer on Infrared Glass Heating Technology

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Mon, 27 Jul 2026 09:12:33 +0800

Hentikan pembaziran haba di dalam bilik pemprosesan wafer anda

Inilah masalah yang sering berlaku pada lampu IR biasa: ia memancarkan haba ke semua arah. Apabila anda memanaskan wafer semikonduktor, anda ingin agar tenaga tersebut sampai terus ke permukaan wafer tersebut. Anda tentu tidak mahu haba tersebut meresap ke dinding dalaman mesin yang bernilai mahal itu.

Apabila peralatan anda berfungsi seperti penyerap haba yang besar, segalanya akan menjadi kacau. Anda akan membazir tenaga, dan kerangka mesin pula akan mengembang akibat haba tersebut. Ini merupakan masalah yang sebenarnya tidak perlu berlaku.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Mon, 27 Jul 2026 06:32:59 +0800

Mengapa kita perlu memeriksa kualiti insulasi pada pemanas wafer
Kita membina pemanas wafer yang harus beroperasi dengan kecekapan yang tinggi, sambil memenuhi syarat-syarat termal yang ketat. Masalahnya ialah apabila kita memasukkan tenaga yang tinggi ke dalam ruang yang kecil, tiada ruang untuk kesilapan. Sekiranya terdapat sedikit pun kebocoran pada lapisan insulasi, maka peralatan tersebut akan rosak atau substratnya akan tercemar.

Itulah sebabnya kita tidak menggunakan kaedah pemeriksaan secara rawak. Setiap unsur pemanasan yang keluar dari kilang kami akan menjalani ujian voltan tahanan dan ujian rintangan insulasi yang menyeluruh. Tiada pengecualian.

Pemantul untuk lampu pengeringan wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:43:19 +0800

Mengapa kita beralih daripada penggunaan udara panas kepada penggunaan reflektor inframerah dalam proses penyembuhan wafer
Jika anda pernah terlibat dalam proses pemprosesan semikonduktor, pasti anda tahu betapa lambatnya proses menggunakan udara panas. Anda perlu memanaskan udara di dalam bilik yang besar hanya untuk menghantar haba ke wafer yang kecil. Ia sama seperti cuba memanaskan rumah dengan memanaskan jalan masuknya terlebih dahulu.

Itulah sebabnya kita beralih kepada kaedah pemanasan menggunakan inframerah. Daripada menunggu udara panas, inframerah menggunakan sinaran untuk memanaskan wafer secara langsung. Ini merupakan cara yang lebih efisien.

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Thu, 09 Jul 2026 04:08:36 +0800

Memastikan Setiap Watt Digunakan Secara Efektif dalam Proses Pemprosesan Wafer

Anda tahu bagaimana keadaannya semasa proses pemprosesan wafer: setiap watt tenaga yang digunakan perlu dimanfaatkan sepenuhnya. Cara lama, iaitu menggunakan sensor suhu biasa, hanya akan menyebabkan haba terbuang sia-sia ke udara. Ini merupakan pembaziran. Jadi, kami mencipta sesuatu yang berbeza: sensor suhu yang dilapisi dengan emas, yang direka untuk mengembalikan haba tersebut ke tempat yang sepatutnya.

Tujuannya sangat mudah: memastikan sebanyak mungkin haba yang berguna dapat digunakan pada wafer, bukannya membiarkannya hilang begitu saja.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800

Di bilik proses litografi, proses pemanasan bahan fotoreaktif memerlukan pematuhan ketat terhadap parameter tertentu. Sebarang perubahan suhu sebanyak 10 ms, atau penyimpangan sejauh 1 mm antara pemanas dan wafer, boleh menyebabkan masalah seperti kegagalan corak pada permukaan wafer, atau wafer yang tidak boleh digunakan lagi. Jarak selamat ini bukan sekadar kawasan yang selesa untuk beroperasi, tetapi merupakan batasan yang penting untuk memastikan kualiti wafer dan keselamatan peralatan.

Berikut adalah cara kami membina modul pemanasan tersebut. Modul ini dipasang pada jarak selamat yang ditetapkan, agar kawasan panas dapat diasingkan daripada komponen optik yang sensitif serta wafer itu sendiri. Dengan cara ini, haba dapat disalurkan dengan efektif dan cepat. Sistem ini mampu mengekalkan suhu yang seragam sekitar ±0.1°C pada keseluruhan permukaan wafer, sehingga proses pemanasan dapat berjalan dengan lancar.

Pemanas pemprosesan wafer nilam

Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800

Di lantai fabrikasi, wafer nilam 2 inci itu diletakkan di bawah landasan litografi, menunggu Soft Bake. Anda memerlukan 110°C di seluruh permukaan, bukan hanya bacaan termokopel. Apa-apa suhu yang lebih rendah akan menyebabkan profil fotoresist terjejas. Tingkatkan suhu melebihi itu pula akan membakar anggaran terma anda.

Apa yang benar-benar penting, secara teknikal

Pemanas yang kami gunakan untuk pemprosesan wafer nilam adalah pemancar kuarza infra merah gelombang pendek (SWIR). Ia membekalkan haba secara langsung dan pantas, dengan inersia terma yang sangat rendah. Keseragaman pada peringkat wafer dikekalkan pada ±0.1°C merentasi chuck, dan kebolehulangan setiap giliran proses berada dalam ±0.2°C.
Platform ini sesuai digunakan dalam bilik bersih Kelas 1–100, dan komponen dipilih supaya pembentukan zarah dapat dikekalkan pada sifar semasa operasi stabil. Anda mendapat kebolehpercayaan 24/7 tanpa gangguan tidak dirancang, dan profil pembakaran fotoresist adalah cukup konsisten untuk mengekalkan kawalan lebarnya garis.