http://ir-glass-heat.com/ms/tags/wafel/ Recent content in Wafel on Infrared Glass Heating Technology Hugo ms Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ Mon, 29 Jun 2026 07:07:42 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS"></p> <p>Lihatlah wafer yang keluar dari <a href="https://o-yate.com">stesen</a> pembilasan tersebut. Tidak boleh ada kesan air pada permukaan wafer tersebut. Bahan photoresist tidak boleh terjejas akibat perubahan suhu yang mendadak. Jika pemanas tidak dapat menghasilkan suhu yang sesuai, kualiti wafer akan menurun – ini bermakna perlu dilakukan proses pembaikan sekali lagi, dan sejumlah wafer perlu dibuang.</p> <p><strong>Apa yang berlaku secara teknikalnya?</strong><br> Kami membina pemanas untuk wafer sensor MEMS ini menggunakan elemen pemanas yang responsif dengan cepat, serta reka bentuk termal yang berdasarkan kuarsa. Reka bentuk ini memastikan suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam <a href="https://o-yate.net">lingkungan</a> ±0.1°C, agar proses pembakaran berjalan dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.</p> http://ir-glass-heat.com/ms/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/wafer-moisture-removal-lamp/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Lampu untuk menghilangkan kelembapan pada wafer"></p> <p>Di bilik pemprosesan wafer, kelembapan yang tertinggal selepas proses pembersihan bukan sekadar <a href="https://o-yate.com">masalah</a> kecil. Kelembapan tersebut akan meresap ke dalam lapisan fotoresist semasa proses pembakaran, lalu mengubah dimensi penting pada permukaan wafer. Ini seterusnya menyebabkan penurunan kualiti wafer. <a href="https://henruite.com">Lampu</a> untuk menghilangkan kelembapan ini berfungsi dengan baik untuk mengeluarkan kelembapan dari permukaan wafer sebelum lapisan fotoresist terjejas.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Lampu ini dibina menggunakan pemancar halogen berfrekuensi tinggi yang terletak di dalam selubung kuarsa. Tujuannya adalah untuk memanaskan permukaan wafer dengan cepat, dengan penggunaan tenaga haba yang minimum. Ini membolehkan suhu permukaan wafer mencapai tahap yang diinginkan dalam masa beberapa saat sahaja, dengan ketepatan ±0.1°C. Profil sinar lampu disesuaikan mengikut diameter wafer dan kelajuan imbasan, agar suhu permukaan wafer dapat dikawal dengan baik, dan sifat kimia lapisan fotoresist tetap tidak berubah. Lampu ini juga sesuai digunakan dalam suasana bilik bersih yang mematuhi standard kelas 1–100; ia memiliki struktur yang kedap udara, dan tidak menghasilkan zarah debu semasa beroperasi secara berterusan.</p>