http://ir-glass-heat.com/ms/tags/pemprosesan/ Recent content in Pemprosesan on Infrared Glass Heating Technology Hugo ms Wed, 17 Jun 2026 15:51:38 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/cigs-solar-cell-processing-heater/ Wed, 17 Jun 2026 15:51:38 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/cigs-solar-cell-processing-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Pemanas untuk pemprosesan sel suria CIGS"></p> <p>Di fasiliti pengeluaran ini, perbezaan suhu bukanlah angka akademik yang boleh direkodkan dalam spreadsheet semata-mata. Ia merupakan faktor penting yang menentukan sama ada sel CIGS berkesan pada tahap 24.5% atau sebaliknya. Jika terdapat perubahan suhu yang tidak diingini, garis tepi sel tersebut akan menjadi tidak konsisten. Jika proses pengeringan lapisan pelindung berjalan dengan tidak konsisten, kebolehpercayaan produk pun akan terjejas. Kami <a href="https://henruite.com">telah</a> mencipta pemanas khas untuk proses pemprosesan CIGS ini, agar ketidaktentuan tersebut dapat dielakkan.</p> http://ir-glass-heat.com/ms/posts/sapphire-wafer-processing-heater/ Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/sapphire-wafer-processing-heater/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png" alt="Pemanas pemprosesan wafer nilam"></p> <p>Di lantai fabrikasi, wafer nilam 2 inci itu diletakkan di bawah landasan litografi, menunggu Soft Bake. Anda memerlukan 110°C di seluruh permukaan, bukan hanya bacaan termokopel. Apa-apa suhu yang lebih rendah akan menyebabkan profil fotoresist terjejas. Tingkatkan suhu melebihi itu pula akan membakar anggaran terma anda.</p> <h2 id="apa-yang-benar-benar-penting-secara-teknikal">Apa yang benar-benar penting, secara teknikal</h2> <p>Pemanas yang kami gunakan untuk pemprosesan wafer nilam adalah pemancar kuarza <a href="https://goldisgood.com">infra</a> merah gelombang pendek (SWIR). Ia membekalkan haba secara langsung dan pantas, dengan inersia terma yang sangat rendah. Keseragaman pada peringkat wafer dikekalkan pada ±0.1°C merentasi chuck, dan kebolehulangan setiap giliran proses berada dalam ±0.2°C.<br> Platform ini sesuai digunakan dalam bilik bersih Kelas 1–100, dan komponen dipilih supaya pembentukan zarah dapat dikekalkan pada sifar <a href="https://o-yate.com">semasa</a> operasi stabil. Anda mendapat kebolehpercayaan 24/7 tanpa gangguan tidak dirancang, dan profil pembakaran fotoresist adalah cukup konsisten untuk mengekalkan kawalan lebarnya garis.</p>