<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keselamatan on Infrared Glass Heating Technology</title>
		<link>http://ir-glass-heat.com/ms/tags/keselamatan/</link>
		<description>Recent content in Keselamatan on Infrared Glass Heating Technology</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-glass-heat.com/ms/tags/keselamatan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:19:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-glass-heat.com/ms/posts/safety-distance-for-wafer-heating/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik proses litografi, proses pemanasan bahan fotoreaktif memerlukan pematuhan ketat &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;terhadap&lt;/a&gt; parameter tertentu. Sebarang perubahan suhu sebanyak 10 ms, atau penyimpangan sejauh 1 mm antara pemanas dan wafer, boleh menyebabkan masalah seperti kegagalan corak pada permukaan wafer, atau wafer yang tidak boleh digunakan lagi. Jarak selamat ini bukan sekadar kawasan yang selesa untuk beroperasi, tetapi merupakan batasan yang penting untuk memastikan kualiti wafer dan keselamatan peralatan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Berikut adalah cara kami membina modul pemanasan tersebut. Modul ini dipasang pada jarak selamat yang ditetapkan, agar kawasan panas dapat diasingkan daripada komponen optik yang sensitif serta wafer itu sendiri. Dengan cara ini, haba dapat disalurkan dengan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;efektif&lt;/a&gt; dan cepat. Sistem ini mampu mengekalkan suhu yang seragam sekitar ±0.1°C pada keseluruhan permukaan wafer, sehingga proses pemanasan dapat berjalan dengan lancar.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
