http://ir-glass-heat.com/ms/tags/fotoresist/ Recent content in Fotoresist on Infrared Glass Heating Technology Hugo ms Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/photoresist-soft-bake-lamp/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Lampu pembakaran lembut untuk photoresist"></p> <p>Pada permukaan litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran tidak menyebabkan masalah yang ketara. Perubahan tersebut akan ditunjukkan melalui variasi lebar garisan, kehadiran bahan pelarut dalam lapisan fotoresist, serta sisa-sisa bahan yang terbentuk beberapa jam selepas proses selesai. Apa yang diperlukan ialah lampu yang mampu mengekalkan suhu fotoresist pada tahap yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya:</strong><br> Kita menggunakan pemancar cahaya inframerah dekat (NIR) yang mempunyai spektrum cahaya yang sesuai untuk memanaskan lapisan fotoresist dengan cepat dan sekata. Dengan cara ini, tidak akan berlaku perbezaan suhu antara permukaan dan bahagian bawah lapisan tersebut. Kestabilan suhu di seluruh kawasan pembakaran <a href="https://henruite.com">adalah</a> sekitar ±0.1°C, yang seterusnya memastikan kelikatan lapisan fotoresist tetap konsisten. Sistem ini dapat beroperasi secara berterusan tanpa menghasilkan zarah-zarah halus, sesuai digunakan di bilik bersih dari kelas 1 hingga kelas 100. Kuasa <a href="https://goldisgood.com">output</a> lampu kekal stabil selama lebih dari 5,000 jam, dengan perubahan intensiti kurang dari 5%. Profil suhu juga tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain.</p> http://ir-glass-heat.com/ms/posts/photoresist-drying-infrared-module/ Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800 http://ir-glass-heat.com/ms/posts/photoresist-drying-infrared-module/ <p><img src="http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Modul pengeringan bahan photoresist menggunakan sinar inframerah"></p> <p>Pada lantai batu, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses <a href="https://henruite.com">pembakaran</a> tidak boleh dianggap sebagai “toleransi” yang boleh diterima. Ia merupakan petanda bahawa wafer tersebut tidak sesuai untuk digunakan. Proses pengeringan bahan photoresist bergantung sepenuhnya pada kawalan suhu yang tepat. Modul inframerah pula merupakan faktor penting yang menentukan keberkesanan proses ini—sama ada ia akan berjaya atau sebaliknya.</p> <p><strong>Apa yang benar-benar penting dalam proses ini</strong><br> Kami menggunakan modul pengeringan bahan photoresist berbasis inframerah yang mampu mengekalkan keseragaman suhu pada tahap wafer pada skala ±0.1°C. Modul ini juga memastikan profil pembakaran tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain. <a href="https://o-yate.com">Pemilihan</a> jenis inframerah dilakukan dengan teliti; inframerah dekat digunakan kerana ia memberikan respons yang cepat dan kawalan spektrum yang tepat. Ini membantu mengelakkan masalah berkaitan kelewatan suhu atau pengaruh negatif terhadap proses pembakaran. Sistem ini direka untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan direka untuk menghasilkan sifar zarah debu, seperti yang dapat diperiksa melalui pemantauan zarah secara langsung. Sistem ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa henti, dan masa penyelenggaraannya diselaraskan dengan waktu perubahan proses pengeluaran.</p>