フォトレジスト on Infrared Glass Heating Technology

フォトレジストソフトベイクランプ

Wed, 01 Jul 2026 12:53:57 +0800

リソグラフィー装置のフロア上では、低温での焼成による影響は明らかな故障としては現れません。代わりに、線幅の変動やレジスト内に残留する溶剤、そして数時間後に発生するスクラップといった問題が現れます。必要なのは、回を重ねても、レジストの温度を所定の範囲内に保つことができるランプです。

技術的に重要な点 私たちは、レジストを迅速かつ均一に加熱できるように、スペクトル出力が最適化された近赤外線ランプを使用しています。そうすることで、フィルムの表面と底部の間で温度差が生じることがありません。ウェーハ全体での温度のばらつきは±0.1℃程度であり、これにより粘度の再現性や塗布性能が向上します。このシステムは連続して稼働し続け、粒子の発生もありません。クラス1からクラス100までのクリーンルーム環境にも適しています。出力は5,000時間以上にわたって安定しており、強度の変動は5％未満です。また、ロットごとにも熱特性が安定しています。

フォトレジスト乾燥用赤外線モジュール

Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800

リソグラフィーの工程において、ソフトベイク時の温度の偏差が半度程度あっても、それは「許容範囲」とは言えません。その場合、ウェーハは廃棄処分されます。フォトレジストの乾燥は温度管理によって左右され、赤外線モジュールは、歩留まりを決定する重要な要素となります。

実際に重要なのは何か 私たちは、ウェーハ全体の温度を±0.1℃以内に保つ赤外線フォトレジスト乾燥モジュールを使用しています。また、ベイクプロファイルもバッチごとに一定に保たれます。エミッターとしては、近赤外線が選ばれています。これにより、迅速で正確な反応が得られ、スペクトル制御も容易になります。これにより、温度の遅れや過剰な上昇を防ぐことができます。このシステムは、クラス1～100の清浄室向けに設計されており、粒子の発生を完全に防ぐようになっています。また、24時間365日稼働し、計画外の停止がないようになっています。メンテナンスのタイミングも、製造ラインの切り替え時に合わせて行われます。

感光材除去用加熱器

Mon, 01 Jun 2026 20:24:33 +0800

リソグラフィ工程フロアでは、フォトレジスト剥離中にサポートヒーターが停止するとラインが完全に停止する。ウェーハは残渣で積み上がり、不良率が増加し、スケジューラーは突然対応に追われる。必要なのは、熱制御でトラブルを起こさないことだけである。
技術的に重要な点
当社のフォトレジスト剥離用サポートヒーターは、アクティブゾーン全体でウェーハレベルの温度均一性を±0.1℃以内に保持し、ベークおよびストリップシーケンス中も設定温度の安定性を維持する。石英素子と制御された短波赤外線経路により対象のみを加熱し、チャンバー内の治具への熱漏れを防いでいる。
組立はクリーンルームClass 1–100に対応し、低アウトガス材料と粒子発生を抑える表面仕上げを使用している。多シフト運用においても、計画外のダウンタイムゼロで24時間365日の信頼性が確保され、クリティカルディメンションを規格内に保つ再現性のある温度プロファイルを実現する。
実際の処理で耐えうる理由
剥離性能は一貫した熱予算の維持にかかっている。サポート温度の安定化により、溶剤系およびプラズマストリップ化学反応が均一に作用し、残渣および剥離後の欠陥を低減する。
ソフトベークおよびハードベークの精度も向上し、ライン幅制御が改善され、再作業率が低下する。結果として、初回合格率の向上、逸脱の減少、エネルギー消費の削減（高速な立ち上がり安定化とオーバーシュートの低減による）につながる。
計画時に考慮すべきこと
ヒーターは既存のストリップチャンバーおよびサポートプラテンに組み込めるが、機械的および熱的なアンカーポイントとインターフェースが正確に一致している必要がある。PID調整とレジスト積層に対するプロファイルの確認のため、短期間の試運転を設けることを推奨する。
使用環境や稼働率により寿命は変わる。高出力運転の場合は、均一性維持のため定期的な石英素子の点検を計画に入れること。