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		<title>Zaffiro on Infrared Glass Heating Technology</title>
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		<description>Recent content in Zaffiro on Infrared Glass Heating Technology</description>
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				<title>Riscaldatore per il trattamento di wafer di zaffiro</title>
				<link>http://ir-glass-heat.com/it/posts/sapphire-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 08 Jun 2026 05:09:03 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per il trattamento di wafer di zaffiro&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sul piano di produzione, quel wafer di zaffiro da 2 pollici è posizionato sotto la linea di litografia, in attesa del Soft Bake. Serve una temperatura di 110°C su tutta la superficie, non solo quella rilevata dal termocoppia. Temperature inferiori causano uno spostamento del profilo del fotoresist; temperature superiori incidono negativamente sul budget termico.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;cosa-conta-realmente-dal-punto-di-vista-tecnico&#34;&gt;Cosa conta realmente, dal punto di vista tecnico&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;I &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;riscaldatori&lt;/a&gt; impiegati per il trattamento dei wafer di zaffiro sono emettitori a quarzo a infrarossi a onda corta (SWIR). Erogano calore in modo diretto e rapido, con scarsissima inerzia termica. L’uniformità a livello wafer è mantenuta entro ±0,1°C sull’intero chuck, mentre la ripetibilità tra cicli si attesta entro ±0,2°C.&lt;br&gt;&#xA;La piattaforma è compatibile con cleanroom Class 1–100 e i componenti sono selezionati per evitare la generazione di particelle durante il funzionamento in regime stazionario. Si garantisce affidabilità 24/7 senza fermi non programmati, e i profili di cottura del fotoresist sono sufficientemente ripetibili per assicurare il controllo costante della larghezza delle linee.&lt;/p&gt;</description>
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