Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer

Tue, 23 Jun 2026 00:06:58 +0800

Nella fase di produzione, l’umidità rimasta dopo la pulizia non rappresenta soltanto un fastidio: essa penetrano nel fotorestatto durante il processo di essiccazione, influenzando negativamente le dimensioni delle strutture da realizzare e causando una diminuzione della qualità del prodotto finale. La lampada per la rimozione dell’umidità risolve questo problema, eliminando l’umidità dalla superficie del wafer prima che questa possa compromettere il funzionamento del sistema di litografia.

Cosa è importante sotto il profilo tecnico
Abbiamo progettato questa lampada utilizzando emittori ad azione halogenica a onde corte, alloggiati all’interno di un involucro in quarzo. L’obiettivo è ottenere un riscaldamento rapido e localizzato della superficie, con un minimo di massa termica. Si ottiene così un tempo di risposta inferiore a un secondo, e una uniformità della temperatura su tutto il wafer entro i ±0,1°C. Il profilo del fascio luminoso è regolato in base al diametro del wafer e alla velocità di scansione, in modo che il bilancio termico rimanga sotto controllo e la chimica del fotorestatto non venga alterata. La compatibilità con ambienti a bassa umidità è garantita grazie all’uso di materiali conformi alle norme Class 1–100, a un involucro sigillato e alla assenza di particelle generate durante il funzionamento continuo.

Rimozione on Infrared Glass Heating Technology

Lampada per la rimozione dell umidità dai wafer