Riscaldatore per essiccazione di wafer dei sensori MEMS

Mon, 29 Jun 2026 07:07:41 +0800

Osservate come la wafer esca dalla stazione di risciacquo: non devono esserci tracce d’acqua. Il fotorest non può subire variazioni termiche improvvise. Se il dispositivo di essiccazione non riesce a raggiungere la temperatura corretta, la qualità del prodotto ne risente: si necessita di ulteriori lavorazioni di rettifica, e quindi lotti interi vanno scartati.

Cosa c’è sotto il profilo tecnico?
Abbiamo progettato il riscaldatore per wafer MEMS utilizzando elementi riscaldanti ad alta velocità di risposta, compatibili con ambienti puliti, nonché un sistema termico basato sul quarzo. Questo permette di mantenere una uniformità della temperatura entro ±0,1°C nell’area attiva, in modo che i parametri di essiccazione vengano rispettati alla perfezione.
La generazione di particelle è ridotta al minimo grazie a una struttura sigillata e a materiali che riducono le emissioni gassose; i valori relativi alle particelle rimangono quindi compresi tra 1 e 100. Il controller registra la temperatura con precisione, permettendo così di mantenere stabili i parametri del processo e di ridurre gli errori. L’uso di energia è misurato con precisione: una massa termica ridotta e un isolamento efficace permettono di ridurre il consumo energetico senza compromettere la stabilità del processo.

MEMS on Infrared Glass Heating Technology

Riscaldatore per essiccazione di wafer dei sensori MEMS