Lampada per forno di laboratorio a semiconduttori

Thu, 18 Jun 2026 04:22:16 +0800

Nelle fabbriche di produzione, la cottura del fotorestista non è affatto opzionale: è un requisito fondamentale per ottenere risultati di qualità. Anche una variazione di temperatura di soli 0,5°C sulla superficie del wafer può influire negativamente sulle dimensioni critiche del componente, compromettendo così il rendimento della produzione. Per affrontare questa sfida, abbiamo progettato appositamente le lampade utilizzate nei nostri laboratori per la lavorazione dei semiconduttori.

Ciò che conta davvero Si tratta di precisione a livello infrarosso. La nostra lampada NIR crea un campo termico uniforme su scala sub-millimetrica, consentendo così un livello di uniformità pari a ±0,1°C sulla superficie del wafer. Non si tratta semplicemente di potenza elevata, ma di un controllo spettrale preciso e di una geometria dei riflettori ottimizzata.

Laboratorio on Infrared Glass Heating Technology

Lampada per forno di laboratorio a semiconduttori