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		<title>Fotoresist on Infrared Glass Heating Technology</title>
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		<description>Recent content in Fotoresist on Infrared Glass Heating Technology</description>
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				<title>Riscaldatore di supporto per la rimozione del fotoresist</title>
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				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 20:24:33 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-glass-heat.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore di supporto per la rimozione del fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sulla linea di litografia, un riscaldatore di supporto che si guasta durante la rimozione del fotoresist blocca completamente la produzione. I wafer iniziano ad accumularsi con &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;residui&lt;/a&gt;, i rottami aumentano e il pianificatore si trova improvvisamente in difficoltà. Serve un controllo termico che non crei problemi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa conta, tecnicamente&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;I nostri riscaldatori di supporto per stripping del fotoresist mantengono l’uniformità della temperatura a livello wafer entro ±0,1°C sull’intera zona attiva e garantiscono stabilità del setpoint durante la sequenza di bake e strip. Elementi in quarzo e percorsi controllati a infrarossi a onde corte riscaldano solo il target, evitando dispersioni termiche sulle strutture della camera.&lt;/p&gt;</description>
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