Riscaldatore per essiccazione di wafer dei sensori MEMS

Mon, 29 Jun 2026 07:07:41 +0800

Osservate come la wafer esca dalla stazione di risciacquo: non devono esserci tracce d’acqua. Il fotorest non può subire variazioni termiche improvvise. Se il dispositivo di essiccazione non riesce a raggiungere la temperatura corretta, la qualità del prodotto ne risente: si necessita di ulteriori lavorazioni di rettifica, e quindi lotti interi vanno scartati.

Cosa c’è sotto il profilo tecnico?
Abbiamo progettato il riscaldatore per wafer MEMS utilizzando elementi riscaldanti ad alta velocità di risposta, compatibili con ambienti puliti, nonché un sistema termico basato sul quarzo. Questo permette di mantenere una uniformità della temperatura entro ±0,1°C nell’area attiva, in modo che i parametri di essiccazione vengano rispettati alla perfezione.
La generazione di particelle è ridotta al minimo grazie a una struttura sigillata e a materiali che riducono le emissioni gassose; i valori relativi alle particelle rimangono quindi compresi tra 1 e 100. Il controller registra la temperatura con precisione, permettendo così di mantenere stabili i parametri del processo e di ridurre gli errori. L’uso di energia è misurato con precisione: una massa termica ridotta e un isolamento efficace permettono di ridurre il consumo energetico senza compromettere la stabilità del processo.

Modulo a infrarossi per l essiccazione del fotorestist

Sun, 28 Jun 2026 05:44:04 +0800

Sul fondo di litografia, una deviazione di mezzo grado durante la fase di essiccazione del fotorest non può essere considerata una “tolleranza accettabile”. In tal caso, il wafer va scartato. L’essiccazione del fotorest dipende interamente dalla regolazione termica; il modulo a infrarossi è quindi fondamentale per garantire una produzione efficiente o, al contrario, causare perdite.

Cosa è davvero importante
Utilizziamo un modulo per l’essiccazione del fotorest a infrarossi che mantiene l’uniformità termica a livello del wafer entro ±0,1°C. Inoltre, permette di mantenere costanti i parametri di essiccazione da lotto a lotto. La scelta dell’emittente a infrarossi è deliberata: si tratta di emittenti a lunghezze d’onda vicine all’infrarosso, poiché permettono una risposta rapida e precisa, con un ottimo controllo spettrale. Questo riduce i ritardi termici e gli errori di processo. Il sistema è progettato per essere utilizzato nelle stanze pulite di classe 1–100, e garantisce un’assenza totale di particelle, grazie a sistemi di monitoraggio in tempo reale. È progettato per funzionare 24/7, senza interruzioni impreviste; inoltre, i tempi di manutenzione sono previsti in base ai cambi di produzione.

Essiccazione on Infrared Glass Heating Technology

Riscaldatore per essiccazione di wafer dei sensori MEMS

Modulo a infrarossi per l essiccazione del fotorestist